Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293774678 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Le réacteur est un outil de traitement et de dépôt de matériaux diélectriques ou semi-conducteurs à haut k sur des plaquettes ou des substrats. Ce système réactionnel est un équipement autonome couramment utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, les laboratoires de recherche et développement et les universités. AMAT P-5000 possède une chambre en acier inoxydable et une chambre de procédé en quartz qui lui permet d'exécuter des procédés humides, tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt par couche atomique (ALD). Une plaque de quartz est utilisée pour transporter les substrats de la serrure de charge à la chambre de procédé. Le mécanisme de maintien du substrat comporte deux électrodes de serrage et deux de levage, permettant un positionnement précis du substrat au centre de la zone de dépôt. Les gaz de procédé sont introduits dans la chambre par l'intermédiaire de régulateurs de débit massique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 dispose également d'une turbo-pompe intégrée qui peut être utilisée pour évacuer les gaz réactifs de la chambre de réactif et d'un système d'eau de refroidissement pour contrôler la température de la chambre. RÉACTEUR AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 permet le dépôt de métaux ferreux, y compris le tungstène, le molybdène, le titane, le cobalt et le tantale. Il convient également pour le dépôt de matériaux diélectriques ou semi-conducteurs, tels que l'oxyde d'hafnium, le dioxyde de zirconium et l'oxyde d'aluminium. Le réacteur AMAT P5000 est conçu pour utiliser plusieurs types de gaz de procédé, tels que l'argon, l'azote et le méthane, pour produire la réaction chimique désirée et former le film désiré. Dans l'ensemble, le réacteur APPLIED MATERIALS P-5000 est un outil polyvalent et puissant pour le dépôt de matériaux diélectriques ou semi-conducteurs de haut k sur des substrats. Sa chambre en acier inoxydable et sa grande chambre de procédé en quartz la rendent idéale pour les procédés humides tels que CVD et ALD. Son contrôle de la température, son mécanisme de maintien du substrat, ses régulateurs de débit massique et sa turbomachine sont essentiels pour produire la réaction chimique et le film désirés. Le réacteur AMAT P 5000 est un outil précieux pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs.