Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293823309 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de réacteur multi-magnétron RF à plaques parallèles à plasma à couplage capacitif (CCP) conçu et fabriqué par AMAT, Inc. Ce réacteur hautement avancé est conçu pour être utilisé dans une variété de technologies de procédé à plasma haute densité (HDP) comme la gravure, le dépôt et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Couramment utilisé dans la recherche et les applications commerciales, le réacteur est capable d'un traitement à haut débit, précis et répétable d'un large éventail de types de matériaux. Cela permet des économies par rapport aux méthodes traditionnelles et assure la cohérence des résultats. Le réacteur AMAT P-5000 est un équipement à trois chambres avec un module de puissance RF, une chambre principale et une pompe. Le module de puissance RF contient le générateur RF principal, un réseau d'adaptation, un accordeur d'impédance optimisé et d'autres équipements électriques. Le réseau d'adaptation, qui adapte les signaux de l'antenne à l'émetteur, assure et optimise la sortie du générateur RF. Cet élément revêt une importance particulière, car il assure une puissance RF cohérente et prévisible. Le tuner d'impédance optimisé comprend une fonction d'auto-tuner qui peut être utilisée pour l'accord en vol et est utilisé pour fournir une puissance maximale à l'antenne pendant le traitement. La chambre principale du réacteur P 5000 de MATÉRIAUX APPLIQUÉS abrite l'ensemble de l'antenne à l'état solide. Cet ensemble est constitué de trois bobines, montées sur trois stanchions séparés, et est destiné à propager le plasma dans la chambre tout en couvrant toute la surface. Grâce au positionnement précis des bobines et à l'utilisation de plaques parallèles, l'antenne crée du plasma haute densité avec des panaches très minces, même. L'intensité de champ de l'antenne est réglable pour augmenter ou diminuer l'intensité du plasma, ce qui permet d'effectuer des processus comme le dépôt, la gravure et le collage avec un meilleur contrôle. La chambre principale abrite également le système de distribution de gaz, qui peut injecter et mélanger plusieurs espèces de gaz dans la chambre. Cette unité de distribution de gaz est conçue pour créer un environnement homogène et stable dans lequel le traitement du plasma peut avoir lieu. En outre, la chambre principale de APPLIED MATERIALS P-5000 abrite divers matériaux de qualité aérospatiale et isolation, assurant une construction de haute qualité et la durabilité. La machine de pompage du réacteur AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est chargée d'évacuer les particules et les gaz de la chambre une fois le processus terminé. L'outil de pompe est l'un des composants les plus importants du réacteur, car sans une bonne pompe à gaz et à particules il y aurait une répétabilité limitée et des pertes plasmatiques importantes. L'atout de la pompe est très avancé et comprend un débit de pompe réglable et un contrôle de vitesse pour les particules, ainsi que plusieurs soupapes de contrôle de gaz pour différentes vitesses de pompe. Le réacteur P 5000 est un modèle de traitement très avancé, construit avec des processus d'expérimentation et de production en tête. Avec son puissant module de puissance RF et son accordeur d'impédance optimisé, son antenne multi-magnétron et son équipement de pompe à gaz et à particules très efficace, APPLIED MATERIALS P5000 est capable de produire des résultats cohérents et de haute qualité à une fraction du coût des méthodes traditionnelles. En outre, les réacteurs peuvent être facilement personnalisés pour des procédés spécifiques, ce qui en fait un choix optimal pour une utilisation dans de nombreuses applications de recherche et commerciales.