Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9040992 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma haute performance de nouvelle génération conçu pour des performances et une fiabilité supérieures dans les applications avancées de semi-conducteurs. Ce type de réacteur, également connu sous le nom de réacteur à plasma haute densité (HDP), utilise du plasma magnétiquement amélioré pour améliorer la vitesse de dépôt, l'uniformité des couches minces, les propriétés de dépôt diélectrique et métallique. Le réacteur AMAT P-5000 HDP possède un certain nombre de caractéristiques clés qui en font un atout précieux pour l'innovation des appareils et des matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs, notamment : Conception multi-fours : Cette conception brevetée utilise une construction de style multi-fours pour assurer un chauffage constant et uniforme de la plaquette. Cette caractéristique est essentielle pour le dépôt reproductible et précis des matériaux sur la plaquette. Fonctionnement à basse température : MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 a une plage de fonctionnement à basse température, ce qui permet un dépôt plus rapide et une haute compatibilité avec la fabrication des appareils standard et à basse température. Contrôle de température hyper précis : Pour améliorer encore la précision de température de P-5000, le réacteur utilise un système de contrôle de température hyper précis pour assurer le dépôt précis et répété de matériaux. Compatibilité de plusieurs substrats : Ce réacteur est conçu pour être très compatible avec divers matériaux de substrat, permettant un dépôt supérieur de matériaux diélectriques et métalliques. Plasma haute densité : le réacteur P 5000 HDP utilise du plasma magnétiquement amélioré qui augmente la vitesse de dépôt, l'uniformité des couches minces et les propriétés de dépôt diélectrique/métallique. Diagnostic à distance : Ce réacteur offre des capacités de diagnostic à distance, permettant le dépannage et l'entretien de la machine en temps réel. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 Le réacteur HDP est un réacteur puissant de nouvelle génération capable d'effectuer des dépôts supérieurs et d'innover dans l'industrie des semi-conducteurs. L'ajout d'un plasma magnétiquement amélioré améliore la vitesse de dépôt, l'uniformité et la compatibilité des matériaux, rendant AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 idéal pour un traitement précis et reproductible des matériaux sur une variété de substrats. Avec son fonctionnement à basse température, son contrôle précis de la température et ses capacités de diagnostic à distance, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 HDP est un réacteur puissant capable d'offrir des performances et une fiabilité supérieures.