Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056702 à vendre en France
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Vendu
ID: 9056702
Style Vintage: 1999
PECVD System, 8"
Mark II P5000 mainframe
(4) Chambers
15 slot storage elevator
8” Cassette Handler
Bolt down load luck lid with purge
Phase III robot
Remote Rack with (2) ENI OEM 12B 13.56Mhz generators
Steelhead Heat Exchanger
Thru the wall interface with (2) monitors: (1) TTW, (1) stand alone
PLIS Cabinet
PLIS Minicontroller
DPS generator rack with ENI DPG-10 Generator and DPA Interlock board
Chamber A:
Universal PECVD chamber
Cluster Throttle valve
Gold Style Lamp module
Phase IV RF match
Dual manometers with 100/1000 Torr manometers
Unit 1660 MF calibrated to customer spec
STEC LF-410 LFM’s and 2410 injectors calibrated to customer spec
Chamber B:
Standard PECVD chamber
Cluster Throttle Valve
Gold Style Lamp Module
Phase IV RF Match
Dual manometers with 10/1000 Torr manometers
1660 MFC’s calibrated to customer spec
1999 vintage.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de traitement à haute performance spécialement conçu pour le dépôt, la gravure et d'autres traitements connexes en couches minces de semi-conducteurs, de semi-conducteurs à couches minces et de matériaux magnétiques. Cet outil est utilisé à la fois pour la production en volume et pour des applications de R-D. Le réacteur AMAT P-5000 dispose d'un module laser et optique et d'un contrôleur capable basé sur CPU/DSP. Le module laser et optique est un système de mouvement à 6 axes, avec une chambre à vide linéaire montée sur un rail linéaire de précision, permettant un mouvement précis et répétable. Le module laser et optique se compose d'une unité laser haute résolution, d'une caméra focale et de communications par fibre optique et laser. Le contrôleur CPU/DSP offre un contrôle programmable des paramètres tels que gaz et charge, polarisation RF et DC, température de la plaquette, temps, énergie et accélération. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 dispose également d'une machine de convection, capable de fournir des températures multiples sur une large gamme de conditions de traitement. Il est équipé de plusieurs systèmes de distribution de gaz, tels qu'un régulateur de débit massique à haut débit et un régulateur de débit massique à bas débit. L'outil de distribution de gaz aide à contrôler la distribution temporelle et spatiale des espèces réactives dans le réacteur. La polarisation par radiofréquence (RF) et par courant continu (DC) peut également être appliquée pendant le traitement, ce qui permet la génération d'espèces actives dans la réaction. Le réacteur AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 présente également un certain nombre de caractéristiques favorisant le processus. Un atout d'échappement à vide élevé est inclus dans le modèle, permettant une évacuation rapide et efficace des sous-produits de réaction. De plus, l'équipement est conçu pour prélever rapidement des échantillons de plaquettes, ce qui permet un raffinement et une amélioration continus du processus. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un outil efficace pour obtenir des performances supérieures dans le traitement par dépôt, gravure et autres couches minces connexes des matériaux semi-conducteurs, semi-conducteurs à couches minces et magnétiques.
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