Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058265 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de gravure plasma haute performance et haute capacité spécialement conçu pour répondre aux besoins de la production moderne de semi-conducteurs. AMAT P-5000 utilise une technologie optique et RF de pointe pour fournir des niveaux élevés de précision et d'uniformité de marquage avec des profils de gravure contrôlés. Ce système est capable de graver jusqu'à 20 plaquettes par heure avec une résolution de 15nm. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La P 5000 dispose d'une unité intégrée de distribution de gaz qui permet un contrôle total du processus plasmatique, y compris la gestion automatique du gaz et la détermination du point final. Cela permet une plus grande flexibilité et le contrôle de la chimie de gravure pour améliorer la fiabilité et la répétabilité du procédé. P-5000 est équipé d'une suite avancée d'automatisation de contrôle plasma qui fournit une surveillance et une analyse détaillées des processus de gravure. Cela permet d'optimiser le processus pour maximiser le débit. Il fournit également des fonctions d'autodiagnostic intégrées qui vérifient et ajustent automatiquement les paramètres du processus. APPLIED MATERIALS P-5000 présente également une conception à double chambre qui permet le plus haut débit possible, ainsi qu'une meilleure stabilité du procédé. Les chambres sont conçues pour assurer le meilleur refroidissement des plaquettes et réduire les risques de dommages diélectriques et plasmatiques. Les chambres doubles permettent également une utilisation maximale du gaz et assurent l'uniformité des plaquettes. P5000 est également équipé d'une machine de diagnostic optique avancée qui permet un traitement OPC en vol. Cela garantit des résultats de gravure précis et reproductibles. Enfin, AMAT P5000 est intégré à une station d'installation, une station de nettoyage et un outil de métrologie in situ. Ceci assure le plus haut débit et l'uniformité des plaquettes. La station d'installation assure une orientation précise des plaquettes et fournit une interface tactile facile à utiliser pour le chargement et le déchargement rapides des plaquettes. L'actif de métrologie in situ analyse les plaquettes pour vérifier l'exactitude des données et fournit une rétroaction précise au modèle de contrôle des processus. Dans l'ensemble, P 5000 est un outil de procédé très avancé conçu pour répondre aux exigences de la production moderne de semi-conducteurs. Doté d'une technologie optique et RF de pointe, d'une conception à double chambre, d'un équipement intégré de distribution de gaz, d'une suite d'automatisation de contrôle du plasma et d'un système de métrologie in situ, cet appareil est capable de fournir les meilleurs niveaux de qualité et de débit dans une chaîne de production.