Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058266 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un réacteur avancé à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) qui est très efficace et fiable. Cet outil permet de grandes chambres de processus, un haut degré d'uniformité de substrat, et une homogénéité interne serrée. Le réacteur AMAT P-5000 utilise également un fonctionnement à basse pression pour augmenter le débit tout en minimisant la contrainte du wafer et en améliorant l'uniformité du film. Les principaux composants du réacteur P 5000 de MATÉRIAUX APPLIQUÉS comprennent une source de grappe à plasma, un système de distribution de puissance à deux bobines couplées inductivement et une chambre de procédé à basse pression. La source de grappe à plasma utilise une série de condensateurs connectés en parallèle qui contiennent trois segments d'électrodes à haute densité, enroulés de fil. Cette configuration d'électrode produit des grappes de plasma uniformes et performantes qui sont optimisées pour PECVD. Le système de distribution de puissance à couplage inductif à deux bobines comprend une grande bobine centrale de faisceau d'électrons pour produire de grands champs de plasma stables, et une bobine environnante plus compacte pour fournir la puissance nécessaire pour le processus serré et précis. La chambre de procédé basse pression est dotée d'un design monobloc en forme de cloche qui permet une grande uniformité à travers la plaquette et à l'intérieur de la plaquette en minimisant les composants qui pourraient créer des points chauds. Le fonctionnement à basse pression de la chambre permet également des débits plus élevés. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Le réacteur fournit des taux de dépôt à grande vitesse, une couverture de substrat uniforme, un large éventail de conditions de procédé et la compatibilité avec une variété de matériaux compatibles PECVD. Cet outil est une solution idéale pour produire des plaquettes avec un contrôle de dimension critique serré et un faible niveau de défaut. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Réacteur peut être utilisé pour produire une gamme de revêtements avancés, y compris des diélectriques et des métaux à base de silicium. Cet outil peut également aider à créer des nanostructures, des capteurs de gaz ultrasensibles et d'autres types d'architectures à l'échelle nanométrique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 Le réacteur est optimisé pour la performance, la fiabilité et la rentabilité. Cet outil est un excellent choix pour les fabricants de semi-conducteurs, car il offre une homogénéité serrée et un excellent débit. De plus, sa chambre de procédé basse pression et son système de distribution de puissance inductif à deux bobines le rendent idéal pour créer des couches critiques avec uniformité sur tout le substrat.