Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9077991 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur conçu pour le dépôt de précision de films ultra-minces. Cet outil polyvalent est idéal pour le dépôt de diélectriques, de métaux, d'oxydes, de nitrures et de couches de silicium polycristallin. Avec son débit élevé et son excellente uniformité, AMAT P-5000 est l'un des outils les plus puissants disponibles pour des applications de dépôt exigeantes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 offre une uniformité et une homogénéité supérieures sur les grandes surfaces des plaquettes. Il est équipé d'un canon à faisceau d'électrons de grande puissance qui permet des vitesses de dépôt rapides. Ce canon à faisceau d'électrons fonctionne à des puissances allant jusqu'à 5000 watts, ce qui signifie que les processus de dépôt peuvent être achevés rapidement et avec une uniformité supérieure. La flexibilité des MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 permet aux utilisateurs d'ajuster les réglages de temps et de puissance afin d'obtenir une qualité de film optimale. Le système est équipé d'une chambre en céramique qui a un design à fond plat. Cette conception permet une uniformité accrue du processus de dépôt et assure une épaisseur constante du film. Le design à fond plat élimine également les réflexions mécaniques internes et l'ombre, assurant ainsi une parfaite uniformité. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 utilise des matières premières de haute pureté pour le dépôt. Son unité de distribution de gaz in situ est conçue pour un contrôle précis des conditions de la chambre, garantissant qu'une quantité précise de matières premières est dans l'espace de la chambre pour une stabilité optimale du processus. Un large éventail de recettes standard et personnalisées est également disponible pour le dépôt optimisé de diélectriques, de métaux, d'oxydes et de couches de silicium polycristallin. En termes de sûreté et de performance, P5000 réacteur est équipé de divers systèmes de sécurité. Il s'agit notamment d'une machine de surveillance de puissance, d'un outil de surveillance des gaz halogènes, d'un actif de décharge de gaz, d'un détecteur de fuites de pression et d'un moniteur de débit. En outre, P-5000 réacteur est également équipé d'un modèle de surveillance avancée qui fournit des informations en temps réel sur les conditions et les performances de la chambre. Le réacteur AMAT P5000 est un outil polyvalent et fiable pour le dépôt de films ultra-minces. Avec son débit élevé et son excellente uniformité, le P 5000 offre des capacités de dépôt supérieures et une large gamme d'options de processus. Cet outil puissant est idéal pour des applications de dépôt exigeantes et peut traiter des matières premières de dépôt de haute pureté et de haute pureté. AMAT P 5000 est un outil de procédé avancé conçu pour la précision et le dépôt de film optimisé.