Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083283 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un équipement de pointe conçu pour les matériaux avancés et le dépôt de films. Il utilise le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par faisceau d'électrons (EBCVD), un procédé chimique qui couche plusieurs couches minces de matériau sur un substrat en utilisant l'énergie d'un faisceau d'électrons pour dissocier les molécules de gaz réactif en atomes qui réagissent avec le substrat et le recouvrent. AMAT P-5000 est un réacteur tubulaire monobloc de 13,56 MHz alimenté par un générateur RF. Il est doté de plasma haute densité pour un dépôt uniforme et convient à un large éventail d'applications avancées de dépôt de matériaux. Le système comprend un canon à électrons à paroi chaude à double zone pour le contrôle de la vitesse de dépôt, et la fonction ARC + à puissance accrue, qui améliore la vitesse de dépôt et l'uniformité. La fonction Tunnel de chaleur amélioré permet une uniformité à haute température sur tout le substrat. La chambre de procédé à quartz contrôlée par RF à paroi froide dispose de gousses de plaquettes de 5 "et 7" avec une option de 4 ", offrant un changement de tranche rapide. L'unité offre un dépôt de film flexible, car elle est conçue pour supporter un large éventail de matériaux et de techniques de dépôt. On peut citer par exemple la métallisation, le CMP et l'oxydation/nitridation. Le grand limiteur de source E-beam à faible entretien permet un entretien rapide et facile, économisant du temps et des coûts. La machine fournit également des interfaces avancées pour contrôler le processus de dépôt et offre une surveillance exceptionnelle de la sortie de dépôt, de la température des plaquettes, et d'autres paramètres. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 Réacteur est conçu avec la sécurité et la commodité de l'utilisateur à l'esprit. Les caractéristiques de sécurité de l'outil comprennent un actif d'arrêt d'oxygène et de gaz, un contrôle d'accès à la salle blanche et des fonctions de surveillance et d'alarme à distance. En outre, le modèle est compatible avec un certain nombre d'accessoires de dépôt, permettant une intégration plus facile des composants, tels que les serrures de charge, les postes de travail et les substrats factices. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT P5000 offre une plate-forme fiable et polyvalente pour le dépôt de matériaux avancés. Avec ses caractéristiques de haute performance et sa facilité d'utilisation, l'équipement fournit une excellente solution pour ceux qui recherchent un système de dépôt de haute qualité.