Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083304 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de gravure de plasma à haute performance breveté par AMAT. Il s'agit d'un équipement de pointe qui permet la microfabrication de circuits intégrés et d'autres composants électroniques. Le réacteur est conçu pour réaliser des procédés sélectifs de gravure et de dépôt pour la fabrication de circuits intégrés et d'autres micro-dispositifs. Il utilise une combinaison d'ondes radio haute fréquence et un mélange de gaz réactifs pour obtenir des résultats précis de gravure et de dépôt. Ce réacteur est capable de réaliser les processus de gravure et de dépôt de plasma les plus difficiles avec un degré élevé de précision et de répétabilité. AMAT P-5000 s'appuie sur la dernière technologie de pointe dans les réacteurs de gravure à plasma. Il utilise une source de plasma basse fréquence qui permet un contrôle extrêmement précis et une excellente uniformité du plasma, ce qui permet une meilleure définition des caractéristiques et des temps de traitement améliorés. Le volume de travail étendu du réacteur offre également un débit et une efficacité accrus lorsqu'il est utilisé dans une production à grande échelle. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur de gravure à plasma P 5000 possède des sources secondaires d'ionisation, comme les faisceaux d'ions, les électrons et la lumière ultraviolette, qui peuvent être utilisées pour améliorer la résolution des caractéristiques et les vitesses de processus. La source avancée de plasma à deux canaux délivre des ions positifs et négatifs permettant un contrôle précis de la gravure. La grande variété de gaz réactifs utilisés dans le procédé permet en outre un procédé de gravure personnalisable qui peut être adapté aux exigences de tout procédé particulier. Le réacteur est également équipé d'un système de protection RF à base de quad, offrant un environnement plasma équilibré et fiable, exempt de perturbations extérieures. Le système est construit en utilisant des surfaces nappées qui sont interconnectées avec des substrats micro-poreux, fournissant un blindage efficace en champ lointain et des températures minimales des points chauds. P5000 réacteur de gravure de plasma est le système le plus avancé dans sa catégorie et fournit des résultats de processus optimaux avec la plus grande robustesse et fiabilité. Sa conception de pointe et sa capacité à personnaliser les processus le rendent idéal pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs, comme la production de composants numériques et analogiques à haut débit.