Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083306 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9083306
Style Vintage: 1996
PECVD system Process: SiO, SiN 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur polyvalent conçu pour le traitement des matériaux semi-conducteurs. Il est spécialement conçu pour les applications de croissance en phase vapeur et de gravure, fournissant des procédés reproductibles et fiables pour la fabrication des plaquettes. Le réacteur AMAT P-5000 est basé sur une conception modulaire avec une chambre secondaire optionnelle pour un procédé plus complexe et personnalisé. Il est également conçu pour répondre aux exigences du traitement monobloc. Le composant central de APPLIED MATERIALS P 5000 est le contrôleur multi-module, qui fournit une plate-forme complète pour la surveillance et le contrôle des différents paramètres de fonctionnement. Le contrôleur est utilisé pour charger et décharger les plaquettes et les gaz, et pour surveiller la pression, la température et le débit. De plus, il permet d'affiner le processus en ajustant les paramètres de fonctionnement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 est équipé d'une zone de chauffage résistif et d'une zone d'induction RF qui assure les fonctions principales de la chambre de traitement. La zone de chauffage fournit des températures uniformes et plus élevées, tandis que les températures plus basses sont fournies par la zone d'induction RF. Les deux zones ont la capacité de gérer la surpression, le vide et l'échappement forcé pour des capacités de processus personnalisées. Une caractéristique supplémentaire d'AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est l' « Air Gap » entre les parois du réacteur et le substrat. Cet écart permet de minimiser l'interférence de la chaleur et des particules entre le substrat et la surface de la chambre, en maintenant les niveaux élevés de fiabilité et de répétabilité qui caractérisent les performances du P-5000. La chambre secondaire facultative permet un processus plus polyvalent et sur mesure. La chambre est étanche à la pression et permet l'utilisation de deux sources de gaz indépendantes. Cette caractéristique peut être utilisée pour alimenter plusieurs gaz, ou pour développer des procédés avancés avec des gaz ou des acides supplémentaires. APPLIED MATERIALS P-5000 utilise une variété de mécanismes de sécurité. Il dispose d'un système intégré de bouteilles et de collecteurs, qui permet une alimentation en gaz sûre et uniforme, et protège contre l'injection accidentelle de gaz incorrects. AMAT P 5000 est également équipé d'un disque d'éclatement de surpression qui est capable d'évacuer instantanément toute pression excessive. AMAT P5000 est un outil robuste et fiable pour la fabrication de plaquettes, fournissant un processus sûr et répétable pour une variété de procédés semi-conducteurs. Avec ses caractéristiques polyvalentes, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est le choix idéal pour tout environnement de traitement.
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