Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083567 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma semi-automatisé pour la production de couches minces à base de silicium. Ce réacteur est équipé d'un équipement entièrement informatisé de contrôle de l'environnement du procédé et de contrôle des performances. Ceci permet un contrôle précis de l'épaisseur et de l'homogénéité du film ainsi qu'un contrôle de la vitesse de dépôt. Le réacteur est composé d'une chambre collerette, d'une chambre de base et d'un panneau de commande. La chambre collerette est la chambre principale de dépôt qui abrite une cathode cylindrique, le matériau source qui fournit le matériau à déposer, et la pompe à vide qui crée le vide dans la chambre. La chambre de base abrite le système de distribution de gaz qui contrôle le flux de précurseur et l'énergie d'activation utilisée sous forme de plasma. Le panneau contrôleur est l'unité de contrôle informatisée qui est utilisée pour surveiller et ajuster les variables dans l'environnement du processus. AMAT P-5000 applique une forme de plasma par le biais de la livraison de précurseur et d'énergie d'activation à la chambre de déposition principale. Le précurseur est une matière première qui est décomposée par le processus d'ionisation et activée par l'énergie d'activation. L'énergie précurseur et l'énergie d'activation sont réparties entre les deux chambres par leurs vannes d'ouverture de chambre respectives. La chambre du collier est alors scellée pour pouvoir fonctionner sous un vide pouvant atteindre 10-7 Torr. Le précurseur ionisé et l'énergie d'activation créent une forme de plasma qui sert à déposer les couches minces sur la plaquette. La chaleur produite par le plasma évacue également l'oxygène des couches minces qui est nécessaire pour un processus de passivation ultérieur. Les films sont déposés à une vitesse typique de 10-20 Angstroms/s, avec une fenêtre de dépôt de 0,4-4,0 Angstroms. Ce procédé crée des films extrêmement homogènes et présentant d'excellentes propriétés d'adhérence. Les films peuvent varier de trois à plusieurs centaines d'Angströms d'épaisseur, avec une épaisseur et une uniformité facilement contrôlables. La dureté du film peut être personnalisée et peut aller de 40 Kgf à 17 Kgf. La vitesse de dépôt et d'autres variables telles que la pression, la puissance RF, le débit et la largeur d'impulsion peuvent être facilement ajustées avec la machine de commande informatisée. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est un outil idéal pour produire des films minces à base de silicium dans une variété d'applications. Il est utilisé dans des industries telles que les écrans plats, les cellules photovoltaïques, les MEMS et la micro-électronique. Avec son contrôle de procédé avancé, P 5000 a une performance inégalée pour produire des films minces avec un contrôle précis et une homogénéité parfaite.