Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9084588 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement avancé et automatisé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) qui est capable de réaliser un large éventail de processus dans la fabrication de matériaux électroniques avancés. Le réacteur AMAT P-5000 dispose de multiples sources de plasma, ce qui permet de déposer simultanément jusqu'à six films distincts. Cela permet de créer des dispositifs sur une large gamme d'épaisseurs, de cristallinités et de densités, et est capable d'obtenir une précision nanométrique dans la fabrication des dispositifs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est hautement configurable et comprend plusieurs réacteurs et sources, ainsi que des soupapes et d'autres composants fonctionnant indépendamment. Cela permet de développer et d'exécuter un large éventail de recettes de processus, permettant à l'utilisateur de produire des structures dans plusieurs matériaux et structures électroniques. Cette configuration multi-processus donne également à l'utilisateur une plus grande flexibilité dans le type de recettes de processus qui peuvent être utilisées, permettant une variété de solutions sur mesure en fonction des exigences de conception ou des besoins expérimentaux. Le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 dispose également d'un système automatisé de contrôle des sources de matériaux, qui permet d'effectuer une synchronisation précise des réactifs individuels à l'intérieur du réacteur. Ceci permet d'assurer que la réaction souhaitée se produit uniformément dans tout le substrat, ce qui conduit à des couches uniformes avec des propriétés électriques et optiques cohérentes. En outre, P5000 réacteur peut être utilisé pour la modélisation et la mise en oeuvre de films multicouches. Le réacteur APPLIED MATERIALS P-5000 est capable de fonctionner à des températures allant de 77K à 650K, et à des pressions allant de 500 mBar à 950 mBar. Il dispose également d'une unité intégrée de contrôle de débit en boucle fermée qui permet un contrôle précis de l'environnement de traitement. Ceci permet d'assurer la qualité et la reproductibilité des couches produites par le dispositif. Le réacteur AMAT P5000 est très fiable et compact, avec de nombreux composants conçus pour un enlèvement et un remontage faciles. Cela en fait un choix idéal pour le prototypage rapide dans les laboratoires de recherche, permettant le développement rapide de produits et la mise sur le marché plus rapide de nouveaux matériaux électroniques. En conclusion, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est une machine PECVD polyvalente et fiable qui peut être utilisée pour un large éventail de procédés dans la fabrication de matériaux électroniques avancés. Avec ses multiples sources de plasma, son contrôle du débit en boucle fermée et son outil automatisé de contrôle des sources, P-5000 réacteur est capable de produire des films très uniformes dans une gamme d'épaisseurs, de cristallinités et de densités. En outre, sa facilité d'enlèvement et de remontage en font un excellent choix pour le prototypage rapide dans les laboratoires de recherche.