Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9087456 à vendre en France

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ID: 9087456
Taille de la plaquette: 6"
Metal etchers, 6" (2) MXP-R2 Chambers with ESC (1) ASP Chamber (1) Wafer orient chamber (28) Line gas panel Phase 3 robot (29) Slot storage elevator.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt de couches minces de pointe conçu pour le dépôt de divers matériaux minces sur des plaquettes semi-conductrices. Le réacteur AMAT P-5000 est capable de déposer des dépôts de silicium épitaxié de haute qualité sur des plaquettes de 200mm et 300mm, ainsi que de déposer divers films minces tels que du silicium amorphe, des oxydes métalliques, des oxydes à base d'hafnium et des silicures. En outre, il peut déposer des couches minces de matériaux organiques et des couches métalliques d'aluminium et de cuivre. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est un système de traitement thermique réactif à simple tranche et à espace fermé. Il comprend une source de faisceau d'ions pour ioniser et diriger le flux de gaz dans la chambre de dépôt, une fenêtre de procédé à quartz pour l'entrée contrôlable de précurseurs gazeux de haute pureté, une tête de douche placée juste au-dessus de la fenêtre du procédé pour introduire des ions dans la chambre et les diriger vers la surface du substrat, un porte-substrat mobile qui sert à positionner avec précision chaque substrat dans la chambre de procédé et une unité de turbo-pompage pour maintenir un vide à l'intérieur de la chambre lors du dépôt du film. La machine comprend également un bras robotique de précision pour le chargement et le déchargement du substrat, et un outil de manutention du gaz avec des régulateurs de débit individuels pour chaque gaz utilisé dans le processus de dépôt. Le réacteur monocouche AMAT P 5000 est capable d'atteindre une température maximale de 900 ° C et peut être utilisé à des températures allant de la température ambiante jusqu'à la température maximale. Il peut également être utilisé dans un environnement enrichi en oxygène pour augmenter la vitesse de dépôt des films et réduire la température de dépôt. L'actif comprend également des têtes de balayage intégrées qui permettent de mesurer les caractéristiques matérielles de la couche déposée telles que la résistance de la feuille, le dopage de la feuille et l'épaisseur du film. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un outil polyvalent pour le dépôt en couches minces qui permet un dépôt précis et précis en raison de sa conception et de ses caractéristiques uniques. Le modèle est capable de déposer une variété de matériaux en couches minces avec d'excellents résultats et est adapté pour une utilisation en salle blanche. L'équipement est très automatisé et relativement facile à utiliser avec son bras robot, son contrôle de puissance et ses systèmes de surveillance de processus conçus pour augmenter la productivité du processus de dépôt.
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