Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9096152 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur dédié aux applications de dépôt de plasma. Ce réacteur est conçu pour traiter des substrats à des températures allant jusqu'à 700 ° C Il utilise les dernières avancées dans la technologie de dépôt plasma pour fournir les applications de couches minces de la plus haute qualité. AMAT P-5000 est conçu pour s'adapter à un large éventail de matériaux, des diélectriques aux semi-conducteurs et aux métaux. La chambre du réacteur est étanche sous vide et est constituée de deux ports à vide variable contrôlés indépendamment. Cela permet de traiter les matériaux dans des vides ultra-élevés aussi bas que 10-7 Torr. Les ports permettent également à l'utilisateur de mieux contrôler les paramètres du procédé lors du dépôt. La chambre dispose également d'une source de plasma importante, permettant une large gamme de densités de plasma, permettant un large éventail d'exigences de dépôt. Le système d'alimentation/contrôleur est équipé d'un système de surveillance plasma et est capable de fournir une variété de profils de puissance, y compris des modes d'impulsion unique, d'impulsion d'éclatement et d'augmentation de puissance. Il existe également un système de contrôle des besoins énergétiques des dépôts de plasma, permettant un excellent contrôle du processus de dépôt. De plus, un système d'émetteurs et de détecteurs optiques in situ permet l'observation détaillée du processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est un outil avancé et très efficace pour le dépôt de plasma. Sa combinaison de caractéristiques offre un excellent contrôle sur le processus de dépôt, permettant à l'utilisateur de produire des films de qualité avec des paramètres de processus serrés. Son haut niveau de flexibilité le rend adapté à un large éventail d'applications et ses moyens de construction robustes, il peut être utilisé dans un environnement industriel difficile avec des exigences de maintenance minimales.