Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9097963 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur avancé à dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). C'est un outil prêt à la production conçu pour aider les fabricants à optimiser leurs processus et à augmenter le rendement. Le réacteur AMAT P-5000 est un équipement de dépôt évolutif à basse pression et à grande surface capable de produire des couches d'oxyde, de nitrure et de poly-silicium. Elle est particulièrement utile dans le dépôt de dispositifs avancés à circuit intégré (IC) et dans la réalisation de dispositifs d'affichage à grande surface et de dispositifs photovoltaïques (PV). MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système P 5000 est une plate-forme flexible qui permet un contrôle de haute précision du processus de dépôt, permettant la production d'oxydes de grille ultra-minces, d'empilements de grille et de couches de diffusion. Son environnement basse pression réduit l'oxydation et la contamination, ce qui permet d'obtenir des couches plus fines et plus uniformes, avec de meilleures propriétés électriques. En utilisant un environnement gazeux inerte d'azote ou d'hélium, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 permet un débit et une répétabilité élevés, avec une érosion minimale des sources et des têtes de douche. AMAT/APPLIED MATERIALS L'unité P 5000 dispose d'une machine de chauffage de substrat avancée qui assure une uniformité uniforme et à haute température sur la surface de la plaquette et fournit une excellente métrologie in situ. Cela permet un contrôle précis des processus en temps réel et réduit les temps d'arrêt des outils en raison de chimies de substrat difficiles. Le réacteur AMAT P 5000 assure également une surveillance du quartz de pointe pour mesurer les émissions spectrales de différentes espèces et optimiser les conditions de dépôt pour différents procédés. L'outil APPLIED MATERIALS P-5000 peut être configuré avec plusieurs processus de chambre basse, y compris le plasma à distance, le plasma post-gravure, la gravure avancée et les processus de dépôt. Des procédés avancés de pulvérisation magnétron, de PVD et de dépôt humide sont également disponibles pour la chambre basse. Un outil intégré et automatisé de manutention des plaquettes avec des effecteurs d'extrémité robotisés assure un chargement et un déchargement rapides et fiables de la plaquette. Le modèle AMAT P5000 est équipé de modules de processus sophistiqués contrôlés par ordinateur offrant une grande facilité d'utilisation. L'architecture modulaire P5000s assure des mises à niveau rapides et faciles, réduisant le coût de propriété. P-5000 offre également des temps de cycle rapides, de faibles émissions, des protocoles de maintenance automatique et une intégration facile dans les réseaux de fabrication existants. L'équipement P 5000 est très fiable et efficace, ce qui en fait un choix idéal pour les fabricants qui cherchent à optimiser leurs processus et à augmenter leur débit.