Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9100769 à vendre en France
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ID: 9100769
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
Metal etcher, 8"
Process: Al
(2) MxP
ASP Chamber
Wafer transfer system
ASTEX Microwave power
Gas lines
Hardware:
Main process modules:
Chamber A
Metal etch B
Strip D
Mark ll Main frame
Storage elevator: 29 Slots
Independent helium cooling
Expanded VME
Phase III robot
Phase II cassette
Sub modules:
AC Remote frame
Digital cables
Analog cables
Emergency interlock cables
Heat exchanger
ENI OEM 12A RP Generator
ENI OEM 12B RP Generator
ASTEX Microwave
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un type d'équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) développé par AMAT. Ce système est un outil avancé de dépôt de semi-conducteurs conçu pour une production à haut volume. Le réacteur se compose de plusieurs composants matériels dont un suscepteur avec porte-plaquettes, une tête de douche à gaz, un réchauffeur et une unité de distribution de gaz. Le suscepteur est une chambre cylindrique haute avec une base circulaire plate, utilisée pour maintenir la plaquette pendant le processus de dépôt. Des supports de plaquettes sont installés sur le couvercle du suscepteur pour disposer les plaquettes dans un ordre spécifié. La tête de douche à gaz est située à l'intérieur du réacteur. Il est équipé de plusieurs buses qui pulvérisent une quantité spécifique des gaz réactifs de la machine de refoulement sur la surface de la plaquette. Un réchauffeur est inclus dans le Réacteur d'AMAT P-5000 pour contrôler la température à l'intérieur du réacteur, en permettant une sélection exacte de température de réaction et de taux de déposition. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 comprend également un outil de distribution automatique de gaz qui fournit le bon mélange de gaz à la pression normale de fonctionnement. Cet actif aide également à maintenir un environnement propre pour prévenir la contamination de la plaquette et du processus de dépôt. Enfin, le réacteur P 5000 est équipé d'un modèle de sécurité qui surveille la pression interne, le débit de gaz et la température, ce qui garantit des paramètres de dépôt optimaux et un environnement de travail sûr. Le résultat du procédé CVD dans le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 est un produit de haute qualité, cohérent et uniforme. Cet équipement est idéal pour les fabricants de dispositifs semi-conducteurs car il peut gérer une production de volume élevé et fournir un rendement élevé.
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