Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9102224 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9102224
Taille de la plaquette: 8"
System, 8" (2) CVD Chambers Etch chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de procédé conçu pour le traitement des semi-conducteurs à haute température. C'est un outil performant qui permet la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. AMAT P-5000 est idéal pour les dispositifs intégrés 3D avancés, tels que les transistors, DRAM, et d'autres, en raison de sa précision supérieure et de ses fonctionnalités compatibles avec la salle blanche. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 présente une chambre en acier inoxydable et en quartz, avec un bouclier de rayonnement thermique monté horizontalement couvrant les murs, le plafond et le plancher. La conception dispose d'un équipement unique d'isolation étanche aux gaz et uniforme, offrant un moyen efficace de contrôler l'environnement et permettant une analyse précise des performances du dispositif. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 utilise un contrôle avancé de l'uniformité thermique, ce qui garantit que tous les paramètres de traitement sont maintenus dans une plage constante, permettant une production cohérente de l'appareil. AMAT P5000 est construit avec un design modulaire et offre des capacités telles que le diagnostic à distance et le contrôle de maintenance, ainsi que des capacités de recette. Cette fonctionnalité permet aux ingénieurs de la fabrication de stocker et de rappeler des recettes en fonction des exigences de traitement des appareils, ce qui permet d'automatiser et de rationaliser les opérations. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 dispose également d'un ensemble de sécurité avancé assurant un traitement sûr et sans défaut. Il comprend des vannes d'arrêt automatiques pour les gaz potentiellement dangereux, des coupures de capteurs de pression et l'absence de contacts de capteurs d'oxygène, ainsi que des limites de basse et haute pression. En outre, AMAT P 5000 offre un système de gestion thermique sophistiqué. Cette unité répartit uniformément la chaleur, assurant une répartition uniforme de la température : uniformité des paramètres de traitement tels que la température, la pression, etc. Il dispose également d'une variété de systèmes de refroidissement personnalisables, offrant un moyen plus efficace de refroidir la machine, et un temps de refroidissement plus rapide. P5000 offre également une variété de technologies de procédé avancées, lui permettant de traiter jusqu'à sept couches de matériau simultanément. L'outil est capable d'utiliser le revêtement de spin, PVD, CVD, gravure, ALD et d'autres procédés puissants, avec un contrôle total des sources de chaleur inductives, radiatives et thermiques. Dans l'ensemble, APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur polyvalent et fiable idéal pour le traitement des semi-conducteurs de haute technologie. Avec sa précision et ses caractéristiques de sécurité, il s'adapte parfaitement à la fabrication de dispositifs intégrés complexes.
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