Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103153 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de recherche et développement de pointe qui est utilisé pour la production de silicium ultra-mince et d'autres matériaux pour les technologies de puces électroniques. Il est capable de réaliser des couches de dispositif inférieures à 10nm et convient à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, tels que des produits graphiques et photovoltaïques. AMAT P-5000 utilise une seule chambre de traitement de plaquettes, composée d'un revêtement diélectrique court, et d'un certain nombre de composants puissants, y compris un élément chauffant, un équipement d'évacuation du gaz et un injecteur. L'élément chauffant est un échangeur de chaleur en céramique résistif, capable de se réchauffer rapidement et de maintenir des températures stables. Le système d'évacuation des gaz est conçu pour évacuer les gaz indésirables, tandis que l'injecteur est utilisé pour injecter des gaz de procédé dans la chambre. La chambre est supportée par une unité d'alimentation, qui fournit une alimentation électrique continue aux différents composants, tandis qu'une machine d'épuration de gaz est utilisée pour nettoyer les gaz de procédé. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est conçu pour graver sélectivement le silicium, les métaux et d'autres matériaux par l'application de pulvérisation radiofréquence, ou d'autres procédés à base d'énergie ou de charge. Le réacteur est capable d'obtenir une plus grande précision et des motifs plus fins que les procédés traditionnels à base de motifs lithographiques, tels que ceux utilisés dans la fabrication de puces. Le réacteur fonctionne typiquement à des pressions plasmatiques comprises entre 0,5 et 5mTorr, et est capable de produire des couches diélectriques, des métaux et d'autres matériaux. AMAT P5000 prend en charge une gamme de paramètres et d'options de processus, tels que la plage de température, le temps de dépôt et la durée totale du cycle de processus. Cela permet la production de microstructures 3D complexes et d'autres conceptions complexes de puces. Le réacteur est capable de produire une surface uniforme pour l'application des procédés de circuits électriques et de fond, et est utilisé dans l'industrie de la microélectronique pour la fabrication de circuits intégrés ultra-minces. P5000 s'est avéré être un dispositif fiable et efficace, permettant aux utilisateurs de réaliser des dispositifs précis et performants dans une fraction du temps requis par les processus traditionnels basés sur la lithographie. Grâce à ses capacités de contrôle perfectionnées et à ses performances supérieures, P-5000 est devenu un outil précieux pour les chercheurs de l'industrie de la microélectronique.