Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103464 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est conçu pour le traitement flexible d'implants ioniques et de dépôts par faisceau d'ions de substrats semi-conducteurs. Il est capable d'obtenir un traitement de haute précision pour les dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération. AMAT P-5000 est conçu pour être modulaire et hautement personnalisable afin de permettre aux clients d'adapter leurs processus de dépôt d'implants et de faisceaux d'ions aux exigences spécifiques de leurs plaquettes. L'équipement dispose de deux chambres et d'une configuration de chambre qui peut supporter jusqu'à quatre plaquettes dans sa plus grande configuration. Les chambres sont exploitées par des aspirateurs indépendants et chacun a son propre environnement séparé, scellé. La première chambre de MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 abrite la source d'ions, la chambre du réacteur, le spectromètre de masse et l'unité de vide de sélection de la source. La source d'ions est une enceinte de diffusion cylindrique avec une source de puissance de fusion. Il fournit un large éventail d'énergies et de géométries de lancement pour répondre à une variété d'opérations de traitement de plaquettes telles que le dopage, le transport de dopage et le confinement de diodes dopantes. La chambre de réacteur d'AMAT P5000 est correspondue avec un anneau magnétique flottant et des plaques d'anode réglables, en fournissant des conditions de bombardant de rayon de l'ion uniformes et un courant de base très bas. La machine spectromètre de masse de APPLIED MATERIALS P5000 est conçue pour l'identification précise des espèces d'impuretés et pour le réglage fin des paramètres d'implantation et de dépôt. La deuxième chambre de P 5000 abrite l'ordinateur de contrôle de processus et d'acquisition de données, qui est conçu pour assurer un contrôle complet en boucle fermée des processus de dépôt d'implants ioniques et de faisceau d'ions. L'outil dispose d'une interface utilisateur graphique évoluée et conviviale qui permet un contrôle rapide et facile avec une configuration minimale. P-5000 est capable de contrôler pleinement les concentrations de toutes les espèces présentes dans la chambre de procédé et de contrôler le courant de faisceau, le courant d'ions, l'énergie et la stochiométrie du faisceau résultant. L'actif est également capable d'obtenir des résultats répétables avec une précision nano-échelle. La conception globale de l'AMAT P 5000 en fait un outil inestimable pour le développement de technologies de traitement des plaquettes à haute performance. La nature modulaire du modèle, combinée à ses capacités de microprocesseur de haute précision, en font un outil puissant qui peut être adapté aux besoins de presque n'importe quelle tâche de traitement de substrat. En tirant parti de la conception et des capacités d'AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000, les ingénieurs de procédé peuvent obtenir des résultats de haute précision avec une efficacité et une flexibilité sans précédent.