Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9111886 à vendre en France
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Vendu
ID: 9111886
Taille de la plaquette: 6", convertible to 8"
Style Vintage: 1992
Metal etcher, 6", convertible to 8"
Chamber A: MxP Metal, M-Chuck Type
Chamber B: MxP Metal, M-Chuck Type
Chamber C: ASP
Chamber D: N/A
Storage elevator: 29-Slot
Robot: Standard 6"
Cassette indexer: 6"
Chucking type: mechanical clamp
Chillers: (4) Dasan DHX-440D
Dry pumps: (4) Edwards QDP80
Gas scrubbers: (2)
Monitors: (2)
Power cables, RF cables, and signal cables
Chambers A Configuration:
Gas1 Bcl3 UNIT HFC 8160 200 Sccm
Gas2 N2 UNIT HFC 8160 100 Sccm
Gas3 Cl2 UNIT HFC 8160 100 Sccm
Gas4 N/A
Gas5 N/A
Gas6 N/A
Back He He MKS
Chamber Manometor MKS
Turbo Pump Seiko Seiki
Turbo Pump Controller Seiko Seiki SCU-21D
RF Generator ENI OEM-12B 1250W
RF Match AMAT
Chambers B Configuration:
Gas1 Bcl3 UNIT UFC-1160A 100 Sccm
Gas2 N2 UNIT UFC-1161A 100 Sccm
Gas3 Cl2 UNIT UFC-1160 100 Sccm
Gas4 O2 UNIT UFC-1163A 100 Sccm
Gas5 CF4 UNIT UFC-1164A 50 Sccm
Gas6 CHF3 UNIT UFC-1165A 100 Sccm
Back He He MKS
Chamber Manometor MKS 1Torr
Turbo Pump Seiko Seiki STB-301CB1
Turbo Pump Controller Seiko Seiki SCU-21D
RF Generator ENI OEM-12B 1250W
RF Match AMAT
Chamber C Configuration:
Gas1 N2 UNIT UFC1860 2SLM
Gas2 O2 UNIT UFC1160A 5SLM
Gas3 N/A
Gas4 NH3 UNIT UFC-8160 100 Sccm
Gas5 H2O VDS Tylen UC-4900MEPR 500Sccm
Chamber Manometor MKS 10Torr
Chamber Manometor MKS 100Torr
Microwave Generator ASTECK AX-2115 1500W
Currently de-installed
1992 vintage.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de réacteur innovant conçu spécifiquement pour fournir des solutions de traitement polyvalentes et rentables pour le traitement des matériaux avancés. Il fournit une gamme complète de solutions aux procédés tels que la gravure, le dépôt, l'oxydation et le recuit, tout en tenant compte du coût et de la complexité associés à ces procédés. Le système est disponible dans des configurations sous-dimensionnées et à grande échelle, et convient à une variété de matériaux, des diélectriques aux métaux. Le réacteur AMAT P-5000 utilise une combinaison brevetée de technologie à plasma RF inductif et une source de résonance cyclotron électronique avancée qui est utilisée pour créer une atmosphère riche en oxygène hautement réactive pour les processus de gravure par impulsions à haut débit. Cette technologie offre une gamme d'avantages par rapport aux sources de plasma classiques, y compris un taux de gravure plus élevé, une meilleure uniformité et des variations de processus réduites. En outre, APPLIED MATERIALS P 5000 est équipé de systèmes avancés de commande numérique et de logiciels sophistiqués pour l'exécution des tâches avec une précision améliorée. APPLIED MATERIALS P5000 est conçu pour des processus à haut débit et reproductibles, tout en produisant des caractéristiques uniformes avec une répétabilité et une reproductibilité élevées. Le réacteur utilise la technologie des dépôts chimiques en phase vapeur (CVD) à deux points, ce qui assure une vitesse de dépôt et une uniformité élevées. En outre, AMAT P 5000 peut traiter des films aussi minces qu'un seul nanomètre et de grands films aussi épais que 10 microns avec un taux de dépôt allant jusqu'à un nanomètre par seconde. P-5000 utilise un élévateur de substrat automatisé pour le chargement et le déchargement, qui fournit des temps de cycle courts et maximise le débit. Son contrôle de processus programmable gère plusieurs tâches simultanément avec des algorithmes logiciels avancés pour s'assurer que les recettes de processus sont optimisées pour chaque application. L'unité de chargement et de déchargement automatisé est capable de fournir des résultats de haute précision à des vitesses extrêmement élevées. La machine P 5000 est également équipée d'un module de surveillance et de diagnostic avancé, qui comprend plusieurs opérations au niveau de l'outil qui permettent aux utilisateurs de surveiller, diagnostiquer et dépanner la performance des actifs et optimiser la performance de l'équipement. Il offre également une interface logicielle conviviale, facile à utiliser et à comprendre. Cela permet aux utilisateurs de créer rapidement et facilement des emplois et de programmer les processus nécessaires pour compléter leur demande. Les fonctions de diagnostic et d'analyse avancées d'AMAT P5000 permettent aux utilisateurs de surveiller et de dépanner rapidement les performances des modèles afin d'optimiser leurs processus. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 fournit une solution complète pour le traitement des matériaux avancés, avec une technologie innovante et des systèmes de contrôle très avancés conçus pour permettre la réalisation de processus complexes avec une précision et une répétabilité élevées. L'équipement est adapté à une gamme de matériaux, des films d'épaisseur nanométrique aux films d'épaisseur 10 microns et offre une gamme d'avantages par rapport aux sources de plasma traditionnelles. Il offre également des logiciels sophistiqués pour une programmation facile et des temps de cycle qui sont conçus pour maximiser le débit.
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