Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9116159 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur semi-conducteur de pointe utilisé dans les procédés de gravure et de dépôt. Ce réacteur offre des performances d'équipement fiables, un fonctionnement rentable et un contrôle des processus permettant la livraison rapide de nouveaux produits. Le réacteur AMAT P-5000 a un générateur de 13.56MHz pour les procédés de pulvérisation à haute puissance RF ainsi que pour les procédés à haute densité de plasma couplé inductivement (PIC). La chambre de procédé est conçue pour un mélange efficace des gaz, un contrôle précis du débit et un entretien précis de la concentration des gaz. Les niveaux de vide sont maintenus à travers un avant-poste mécanique diaphragme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 utilise également une vanne à vide pour une régulation précise de la pression trapézoïdale. Outre ses hautes performances, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 permet d'économiser des coûts grâce à sa conception unique qui maximise le rapport de la densité de flux ionique installée par unité de surface avec un matériel utilisé de manière optimale. La puissance appliquée dans le processus est très efficace, ce qui apporte des avantages en termes de coûts puisque moins de puissance opérationnelle est nécessaire. APPLIED MATERIALS P-5000 dispose d'une combinaison de sources de polarisation continue et impulsionnelle avec un contrôle précis de la largeur, de la fréquence et de l'amplitude des impulsions. Ceci permet d'optimiser les recettes de gravure et de dépôt, assurant un rendement et une qualité excellents. P-5000 offre des propriétés pelliculaires améliorées telles que l'uniformité, la densité et l'épaisseur, avec son contrôle précis de la température et de la pression. La conception sophistiquée des procédés, le contrôle précis de la croissance des films et l'amélioration du débit sont quelques-uns des principaux avantages du réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000. Le réacteur a une source d'ions avec des émetteurs séparés pour différents rials et couches de maté. De plus, ce réacteur dispose d'un système d'injection de gaz qui assure une répartition précise du gaz et un contrôle de pression à différents niveaux à l'intérieur de la chambre. Le réacteur AMAT P5000 permet en outre des processus de fabrication à grande vitesse avec un courant continu à basse tension entièrement numérique, courant alternatif (AC) et sources d'alimentation par pulvérisation. En fournissant des performances d'équipement fiables et un fonctionnement rentable, P 5000 est un choix populaire pour la fabrication de semi-conducteurs.