Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9134013 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement sous-atmosphérique de traitement thermique rapide intégré (RTP) conçu pour assurer un dépôt uniforme et à haut rendement de couches minces de divers matériaux. Ce système peut être utilisé pour fabriquer des composants dans un large éventail d'industries, y compris les semi-conducteurs, la microélectronique, l'optique médicale et l'optique spéciale. Le réacteur AMAT P-5000 est capable de traiter à des températures allant jusqu'à 2000 ° C dans une atmosphère d'hélium, ce qui permet diverses techniques avancées de dépôt en couches minces telles que l'oxydation thermique, la pulvérisation ionique, les procédés ALD, CVD et ALD-CVD. Il comprend diverses caractéristiques avancées telles que le réglage automatique de la recette, le nettoyage dynamique de l'ozone pour le dépôt de couches minces à faible contamination, les volets de purge pour le contrôle du débit de gaz, un porte-plaquettes motorisé pour le pré-alignement rapide des plaquettes avant le dépôt, ainsi qu'un cadre de pulvérisation conçu sur mesure avec des canaux de refroidissement et des bornes de contrôle de la température pour assurer une répartition uniforme et répétable de la température dans l'enceinte. Cette unité offre également des options de processus flexibles et une évolutivité modulaire, permettant aux utilisateurs d'intégrer les dernières technologies de dépôt en couches minces. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 dispose d'une caméra haute résolution qui permet un alignement rapide des plaquettes et un positionnement précis du produit final dans la chambre de procédé, avec un niveau de vide allant jusqu'à 5E-5 Torr. Il dispose également d'une machine de serrure intégrée, qui permet le chargement et le déchargement des plaquettes, tout en maintenant un environnement de traitement cohérent. Cela garantit des résultats stables et reproductibles sur plusieurs cycles de processus. Enfin, l'outil comprend un ventilateur de refroidissement pour évacuer l'excès de chaleur de la chambre de procédé, assurant un dépôt uniforme en couches minces sur tous les substrats. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Réacteur est une excellente option pour quiconque recherche un actif efficace et peu coûteux pour le dépôt avancé de couches minces. Avec sa configuration flexible, il permet aux utilisateurs de suivre l'évolution des technologies de dépôt en couches minces, garantissant des résultats de haute précision et reproductibles pour un large éventail d'applications.