Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9134767 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur monocouche intégré de pointe conçu pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Doté d'une architecture planaire innovante, AMAT P-5000 est capable de procédés de dépôt avancés tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). Cela le rend parfait pour la création de couches minces et de nanostructures pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs. Le système est composé de quatre composantes principales. La première est la chambre de procédé, qui comprend un certain nombre de conduites de gaz et un générateur de vapeur descendant. A l'intérieur, le générateur de vapeur chauffe les matériaux dans la chambre tandis que des conduites de gaz injectent les matériaux vaporisés sur le substrat. La chambre est scellée par une purge N2, évitant la contamination des matériaux et réduisant les réactions indésirables. Le deuxième composant des MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est le générateur de plasma. Ce composant crée la réaction souhaitée dans la chambre en utilisant l'énergie RF (Radio Frequency) pour exciter les molécules dans la chambre. Ce procédé permet de réduire les défauts et les impuretés, qui sont essentiels pour optimiser les performances du dispositif. Le troisième composant de APPLIED MATERIALS P5000 est le système de plate-forme, qui permet un contrôle précis du processus de dépôt. Cela comprend un certain nombre de modules qui contrôlent la pression, la température et le débit de gaz dans la chambre de processus. Il comprend également un certain nombre de capteurs pour surveiller le processus, permettant un réglage en temps réel pour garantir des performances optimales. Enfin, le quatrième composant est le système d'automatisation qui assure le contrôle de l'ensemble du processus de dépôt selon la recette prévue. Cela permet un haut niveau de répétabilité, ce qui est crucial pour les ingénieurs qui créent des structures de dispositifs complexes. En résumé, le P 5000 est un réacteur intégré avancé monobloc conçu pour répondre aux exigences de la production avancée de dispositifs semi-conducteurs. Avec son architecture planaire et sa gamme complète de composants, AMAT P5000 est capable de créer des films minces et des nanostructures avec une grande précision et répétabilité.