Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9144772 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur parallèle à haut débit conçu pour les applications MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition). Le réacteur utilise une conception modulaire qui offre une évolutivité et une flexibilité de processus supérieures dans les configurations de champ de vision stratégique (FOV) et de cavité de chambre. L'équipement est conçu pour fournir un débit élevé avec des applications pour la métrologie, la lithographie, la science des matériaux et le traitement des dispositifs MicroelectroMechanical Systems (MEMS). La chambre de processus d'AMAT P-5000 est équipée avec un contrôleur d'écoulement de masse (MFC) qui contrôle la livraison de gaz inerte et de gaz de processus, pendant que la température substrate est régulée par un détenteur substrate thermalement efficace. Le MFC est couplé avec un contrôleur numérique et un système de mesure de température qui offre un contrôle précis de l'environnement du processus. L'unité comprend également une interface wafer-to-refinery avancée qui minimise la contamination potentielle et augmente la reproductibilité des fenêtres de processus. En plus de la chambre de procédés, APPLIED MATERIALS P 5000 comprend également une machine de métrologie in situ qui offre un suivi fiable en temps réel de l'état et de la précision des procédés. Grâce à des instruments optiques de haute qualité, l'outil de métrologie peut capturer des images de surface de l'échantillon et analyser une variété de données, y compris le taux de croissance des cristaux et l'uniformité. Cela garantit une production fiable à haut débit avec de faibles risques de contamination ou d'autres anomalies. P-5000 dispose d'un actif de transport qui est conçu pour la robustesse et la flexibilité, minimisant le temps d'arrêt du processus et évitant les plaquettes écrasées. Ce modèle de transport offre un contrôle serré de la vitesse du rotor et du centrage des plaquettes, ainsi qu'un équipement sûr pour la détection automatique des défauts. La conception globale du système P5000 est optimisée pour un débit maximum et une flexibilité supérieure. Grâce à son évolutivité supérieure, à sa polyvalence des procédés et à ses capacités de contrôle serrées, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est sûr de répondre aux exigences des applications MOCVD dans les industries semi-conductrices et connexes.