Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9153667 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9153667
Etchers P/N: M0010-09490, M0010-36408.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de gravure de pointe utilisé pour graver une variété de plaquettes de matériaux sur les marchés de la microélectronique, de la nanoélectronique, du stockage de données et de l'optoélectronique. Il fait partie d'une suite complète d'outils de gravure offerts par AMAT, qui sont conçus pour fournir la plus grande fiabilité, les taux de gravure les plus profonds, et les fenêtres de processus les plus larges. AMAT P-5000 est conçu pour la gravure générale, y compris la gravure à haut rapport d'aspect, et peut précisément créer des structures multi-niveaux, permettant la structuration complexe des circuits intégrés les plus complexes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est capable de fournir des profils de gravure cohérents à travers une variété de différentes recettes de gravure, dont la plus précise est avec une configuration de gravure assistée par plasma. Cette configuration comprend une chambre à vide, une alimentation RF, une unité de contrôle des gaz de procédé et une antenne ou électrode d'injection. La pression atmosphérique dans la chambre est maintenue avec une pompe mécanique et un régulateur, tandis que le gaz de gravure est introduit dans la chambre par un système de manutention des gaz. Le plasma généré par micro-ondes se compose d'ions, de radicaux et d'autres espèces activées qui créent un environnement très chargé qui encourage les taux de gravure sur les matériaux exposés. APPLIED MATERIALS P-5000 est équipé d'un patform MECR (Modulated Electron Cyclotron Resonance) qui améliore l'uniformité du plasma, réduit le temps de gravure et augmente le débit. AMAT P 5000 est l'un des systèmes de gravure les plus avancés disponibles, offrant une grande variété de recettes et de hautes performances. P5000 est conçu pour produire des profils de gravure profonds et pointus dans divers matériaux, dont le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et les photorésistes. Avec son contrôle précis des taux de gravure, APPLIED MATERIALS P5000 permet une lithographie et un micromachinage plus rapides. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 dispose d'une unité de contrôle de photoionisation avancée qui assure une réponse rapide aux erreurs de contrôle et maintient des résultats de processus très précis. De plus, le P 5000 est équipé d'outils de suivi des performances et de diagnostic en temps réel qui facilitent l'optimisation et le suivi des processus. En conclusion, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est une machine de gravure avancée conçue pour produire des profils de gravure profonds et précis avec des paramètres de processus réglables, des taux de gravure élevés, une excellente uniformité et des temps de processus rapides.
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