Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9153669 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement de dépôt avancé fabriqué par AMAT, une entreprise connue pour la vente et le soutien d'équipements pour la recherche et l'industrie des semi-conducteurs. Ce type de réacteur est utilisé pour la pulvérisation à haute précision de couches minces pour des applications telles que la lithographie et l'isolation diélectrique, et est un exemple de premier plan d'un système de dépôt de couches minces de pointe. Cette unité de dépôt particulière comporte une chambre de procédé multi-bras avec une machine de pompage à 2 segments et une région intégrée sur axe. Il est composé d'une chambre à vide en acier inoxydable de haute qualité et peut contenir neuf bras de procédé, chacun conçu pour manipuler des porte-plaquettes hermétiques. Les panneaux de protection se trouvant à l'intérieur de la chambre sont constitués d'une épine dorsale en aluminium avec des parois latérales composites en fibre de carbone. Le logiciel de contrôle de procédé permet à l'utilisateur de contrôler les états électriques, mécaniques et chimiques de la chambre et de ses composants afin d'obtenir les résultats de procédé souhaités. AMAT P-5000 est équipé de deux alimentations intégrées pour la pulvérisation et assure un contrôle complet du courant cible. Il supporte une gamme de matériaux pulvérulents allant des métaux aux alliages, aux produits organiques et même aux oxydes. Afin d'optimiser le processus de dépôt, l'outil peut détecter les impuretés présentes dans le matériau cible et fournit un affichage en temps réel du courant et de la pression cible. Ceci permet de pulvériser le matériau avec un maximum d'uniformité, ce qui permet un dépôt en couche mince de haute précision. L'actif a également la capacité de mesurer la température de la plaquette, permettant à l'utilisateur d'optimiser les conditions de dépôt. Ceci peut également être utilisé pour que la température du substrat soit inférieure au point de fusion du matériau désiré. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est équipé de diverses autres caractéristiques pour assurer une utilisation efficace des cibles. Par exemple, il comprend un modèle avancé de gestion des cibles pour exclure automatiquement le matériel cible utilisé et éviter les dommages à l'équipement et à ses composants. De plus, sa source d'ions réglable fournit des résultats de dépôt améliorés et permet une meilleure uniformité entre les matrices. Enfin, son système unique de filtration de l'air empêche la saleté et les particules de poussière d'entrer dans la chambre à vide, assurant ainsi une meilleure stabilité et uniformité du procédé. Dans l'ensemble, P5000 est une unité de dépôt en couches minces de haute qualité, à la pointe de la technologie, qui offre une précision et un contrôle de procédé supérieurs. Il est conçu pour traiter une grande variété de matériaux et ses caractéristiques aident à optimiser le processus de dépôt, le rendant parfait pour la recherche et les applications industrielles.