Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9157759 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9157759
Dry etcher, 8" (3) MxP (1) Ox (2) Poly (1) ORT 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est l'un des systèmes de dépôt plasma à haute énergie les plus avancés disponibles aujourd'hui. C'est un outil unique et puissant qui est utilisé dans le développement et la fabrication de matériaux en couches minces. Le réacteur AMAT P-5000 combine plusieurs procédés tels que la gravure, le dépôt, le dépôt thermique en phase vapeur (CVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sur une seule carte de circuit. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 utilise une source de plasma à haute énergie qui fournit des dépôts en couches minces incroyablement uniformes et cohérents à des températures plus élevées que les systèmes classiques de pulvérisation cathodique. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est doté d'un procédé d'exploitation innovant en plusieurs étapes. Il commence par une chambre de prétraitement intégrée qui effectue la gravure, le nettoyage et la passivation. Cette étape prépare le substrat à un traitement ultérieur en créant une surface uniforme pour le dépôt en couches minces. Ensuite, le réacteur utilise un système plasma à haute énergie pour effectuer le dépôt. Ce procédé crée des couches du matériau désiré au-dessus du substrat. Enfin, une chambre de post-traitement optionnelle peut être utilisée pour refroidir et durcir le matériau déposé. L'interface utilisateur permet aux utilisateurs de programmer des paramètres de fonctionnement personnalisés, tels que la température du substrat, la pression et les débits. Cela leur permet de peaufiner le processus pour atteindre les performances souhaitées. Réacteur AMAT P 5000 est capable de réaliser des processus de dépôt multi-étapes dans une chambre. Cela permet de gagner du temps et d'augmenter la productivité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Le réacteur est extrêmement économe en énergie et fiable, ce qui le rend bien adapté à une utilisation en série. Sa puissance de traitement et sa flexibilité en font un choix idéal pour le développement et la fabrication de matériaux à couches minces. Sa précision et la reproductibilité des résultats de processus le rendent adapté à la création d'appareils et de matériaux avancés. Le réacteur P 5000 est extrêmement facile à mettre en place et à utiliser, ce qui en fait un excellent choix pour même les fabricants novices.
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