Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9160448 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un outil de production spécialement conçu pour les procédés de dépôt et de gravure associés à la fabrication de matériaux semi-conducteurs. Il permet la production efficace de couches minces de divers matériaux sur des substrats monocouches et multicouches. Le réacteur AMAT P-5000 est un outil polyvalent qui peut être utilisé dans divers procédés, comme l'oxydation par plasma ; dépôt physique en phase vapeur ; dépôt chimique en phase vapeur ; gravure ; fabrication d'électrodes ; croissance des alliages ; production de catalyseurs ; dépôt de couches minces ; et la recherche-développement. Ses procédés supportés par plasma sont conduits dans un environnement de réacteur vertical en mode discontinu avec une chambre à vide chauffée, ainsi qu'une série d'étages de plaquettes et de sous-systèmes de support intégrés verticalement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est équipé d'une source de plasma RF haute puissance et d'une source de diagnostic in situ distincte. Cette combinaison offre la flexibilité nécessaire pour obtenir des paramètres physiques précis - température, débit de gaz, pression et courant - pour obtenir des résultats fiables. P-5000 Réacteur dispose d'un bocal en quartz très solide et durable, et ses composants sont construits pour un large éventail de conditions de processus. De plus, le réacteur peut être tourné et incliné pour une manipulation plus aisée. Cette particularité permet d'utiliser le réacteur APPLIED MATERIALS P-5000 pour un ensemble d'applications de dépôt, y compris le traitement diélectrique, de résistance, de cuivre et d'amélioration de l'adhérence. Le réacteur est en outre équipé d'un système de chicane spécialement conçu pour un contrôle précis de la distribution du gaz à l'intérieur de la chambre. Ce système de chicane améliore l'homogénéité du dépôt et contribue à réduire l'épaisseur totale et les distorsions de masque des couches minces. AMAT P5000 Reactor comprend également un système de contrôle informatique unique qui permet à l'utilisateur de sélectionner et de contrôler divers paramètres de processus. Ce logiciel aide à faciliter le chargement/déchargement des plaquettes, la caractérisation et l'analyse des échantillons, la planification des processus et l'étalonnage des conditions de dépôt. En bref, APPLIED MATERIALS P5000 Reactor est un outil de dépôt avancé conçu pour faciliter la réalisation précise de couches minces et de structures multicouches. C'est un outil efficace et polyvalent qui offre des résultats cohérents et fiables.