Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9164116 à vendre en France

ID: 9164116
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma à entraînement direct à haute performance spécialement conçu pour des applications techniques de précision. AMAT P-5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur à plasma à entraînement direct (CVD) breveté de pointe qui présente une conception innovante pour améliorer la performance des procédés, la fiabilité et les économies sur le cycle de vie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est une plate-forme de haute technologie pour les industries de haute technologie et est conçu pour fournir des dépôts de couches minces de haute qualité, sans défaut, permettant aux clients de fabriquer des dispositifs de haute qualité tels que la microélectronique, les dispositifs optiques, les écrans plats et les substrats photovoltaïques. P-5000 utilise une source de plasma brevetée à base de quad-magnétron pour fournir un plasma pur uniforme qui favorise la croissance uniforme des couches minces. P5000 est équipé d'un seul système à faible couple et à entraînement direct qui réduit le besoin d'entretien fréquent. L'architecture à entraînement direct réduit également les vibrations nuisibles et améliore la stabilité des processus. En outre, l'alimentation électrique à haut rendement d'AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 offre un excellent transfert d'énergie et des économies d'énergie. La source de plasma AMAT P 5000 à faible consommation d'énergie et à basse température offre également une stabilité de procédé supérieure. La source est conçue pour offrir aux utilisateurs des propriétés plasmatiques cohérentes, permettant des vitesses de dépôt stables et éliminant les variations des propriétés des couches minces à travers le substrat. En plus d'offrir une meilleure stabilité et fiabilité des processus, AMAT P5000 est conçu pour répondre aux exigences de sécurité les plus strictes. P 5000 est conçu pour minimiser les risques associés aux environnements explosifs grâce à sa chambre à vide en acier inoxydable à paroi épaisse et très durable et à son capteur de pression avancé. APPLIED MATERIALS P-5000 dispose également d'une fonction de dérivation automatique pour la récupération rapide de la pression en cas de panne inattendue. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un réacteur à plasma à entraînement direct puissant et fiable qui convient bien pour des applications techniques de précision. APPLIED MATERIALS P5000 offre des performances de dépôt de film supérieures, une excellente stabilité du procédé et des caractéristiques de sécurité supérieures. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un excellent choix pour toute entreprise recherchant un réacteur de dépôt plasma fiable et efficace.
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