Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9171284 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de dépôt conçu pour déposer des couches minces sur des plaquettes semi-conductrices en milieu plasma. Le réacteur est spécifiquement conçu pour travailler avec des matériaux semi-conducteurs tels que le silicium, le dioxyde de silicium, les transistors tridimensionnels (3D) et les circuits intégrés photoniques. Il est capable de délivrer de grandes surfaces de plaquettes et de manipuler facilement les sensibilités associées à la photolithographie en ligne fine qui conduit à des rendements plus élevés dans le processus de fabrication. AMAT P-5000 chambre contient un piédestal octogonal avec un mécanisme avancé de levage de processus. Ceci permet une position et une stabilité précises de la plaquette lors du traitement en maintenant une distance constante entre la plaquette et l'électrode supérieure. Le mécanisme de levage peut être utilisé pour réduire la contamination et la rupture des plaquettes, ainsi que pour affiner les paramètres de traitement pour différents matériaux. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 atteint une grande uniformité tout au long du processus de dépôt en incorporant une conception unique de source à deux canons. Le double canon est équipé de deux sources de plasma à résonance cyclotron électronique (ECR), ce qui permet de minimiser la non-uniformité. P-5000 dispose également d'un module de distribution de puissance avancée propriétaire qui assure une distribution de puissance fiable et uniforme de la source de plasma ECR à la plaquette. En plus du module de puissance, P5000 utilise un équipement breveté de déploiement de gaz pour le dépôt ciblé de gaz. Ce système contrôle plusieurs sources de gaz et permet un réglage fin des recettes de gaz pour optimiser les taux de dépôt, l'uniformité et les caractéristiques de dépôt. Une unité dédiée de gestion de processus contrôlée par logiciel sert de « cerveau » de la machine. Cet outil est conçu pour optimiser l'efficacité du processus en contrôlant automatiquement les paramètres de recette et les cycles de maintenance. Cela réduit le temps d'achèvement et augmente les rendements de production. En général, AMAT P5000 est un réacteur de déposition extrêmement flexible qui est capable de livrer des résultats de processus supérieurs pour un large éventail d'applications de semi-conducteur. Il offre des performances supérieures tant pour les dépôts à petite échelle que pour les dépôts à grande échelle, ainsi qu'une disponibilité accrue et des coûts réduits par rapport aux chambres de dépôt traditionnelles.