Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9172854 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) par plasma développé par AMAT, Inc. Le réacteur utilise une gamme de champs magnétiques distincts, de fréquences RF et de sources de plasma pour atteindre une large gamme de températures de traitement et de niveaux de flux, ce qui permet des taux de dépôt plus élevés, des rendements de processus plus élevés et la capacité de traiter de grandes plaquettes en un seul lot. Les processus qui peuvent être réalisés avec AMAT P-5000 incluent l'épitaxie, la déposition de couches de diélectrique de haute performance, la déposition de carbone pareille à un diamant, se photoopposent à ashing, gravure à l'eau forte d'aluminium et silicium et etchant différent les processus se nettoyant. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 dispose d'un environnement flexible qui permet le traitement efficace de matériaux avec une large gamme de combinaisons de températures de dépôt, de flux, de configurations de chambres et de gaz. S'appuyant sur les capacités de son prédécesseur, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 dispose également d'une évolutivité du système avec la capacité de s'adapter à des dépôts plus complexes. Le système offre également une meilleure durée de vie des sources avec de plus grandes gammes de sources et des capteurs de four intégrés améliorés pour le contrôle des paramètres propres au processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 le réacteur est disponible en trois configurations de chambre : configuration à chambre unique (SC), configuration à chambre double (DC) et configuration à chambre triple (TC). Le compartiment de la chambre a une construction en acier inoxydable avec des modules d'évaporateur de graines d'or remplaçables pour améliorer l'uniformité et la distribution de gaz entièrement programmable pour la flexibilité dans les chimies de dépôt. Une gamme de sources et de composants pour chaque configuration contribue à assurer un dépôt uniforme et cohérent des matériaux, même sur de grandes tailles de substrat. P 5000 peut être utilisé pour déposer une variété de matériaux tels que l'aluminium, le titane, l'aluminium dopé aux nitroutes, le chrome, l'antimoine, le tungstène et le dioxyde de silicium. La capacité de contrôler avec précision les paramètres du procédé, le dépôt uniforme et le débit élevé permet un dépôt de grande qualité, un coût réduit de non-conformité (CNC) et des résultats optimaux dans des délais de traitement courts. La technologie améliorée de refroidissement économe en énergie d'AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 permet une zone de dépôt plus grande et plus uniforme avec une meilleure planéité. En outre, le système comprend des composants qui ont été conçus pour réduire les temps de maintenance et d'arrêt en automatisant les tâches communes, y compris l'échange automatique de sources et de pompes, l'amélioration de l'adaptation des radiofréquences et des biais, et l'étalonnage automatique des capteurs en fin de course. Dans l'ensemble, P5000 est un réacteur CVD polyvalent et polyvalent, conçu pour le dépôt de divers matériaux pour un large éventail de besoins de traitement. C'est un choix idéal pour obtenir des résultats de haute qualité et de rendement élevé dans une grande variété de procédés.