Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9177255 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à hautes performances. Conçu pour maximiser la vitesse de dépôt, l'uniformité et la capacité de contrôle du processus, ce réacteur comprend un équipement intégré de mesure directe en ligne (IDM) pour le contrôle du débit de gaz N2 ou O2, ainsi qu'une source de plasma éprouvée, une technologie avancée de résonance cyclotron électronique, une protection contre les dommages causés par les fils chauds et un verrouillage d'air supérieur pour une durée de vie extrêmement longue. Avec sa grande surface de traitement de 254mm x 304mm, AMAT P-5000 est idéal pour traiter une variété de types de substrat dans des productions à grande et petite échelle. Le système comprend une source de vide de 1 bar avec une combinaison de systèmes de pompage perfectionnés et sophistiqués sans huile, y compris une pompe à traînée moléculaire et une pompe turbo-moléculaire. Cette combinaison offre une vitesse de pompage exceptionnellement importante allant jusqu'à 200 000 litres par seconde, permettant des cycles de processus rapides et fiables. La grande surface de traitement est conçue pour permettre un débit maximum et stimuler la production de cire en une seule fois. L'unité dispose également d'une alimentation avancée en courant continu et RF, permettant un dépôt fluide et fiable de métaux, d'oxydes, de silicium polycristallin, de diélectriques et de nitrures. Sa technologie de résonance cyclotron électronique est très efficace et assure des conditions de dépôt uniformes sur toute la zone de la plaquette. Un procédé unique en deux étapes est utilisé pour garantir des taux de dépôt élevés avec une consommation minimale de gaz et d'électricité. Les dispositifs de sécurité tels que la protection des fils chauds, la protection contre les courts-circuits, la protection contre les basses pressions et la protection contre les surtensions offrent une assurance supplémentaire d'un processus sûr. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La P 5000 est également compatible avec une large gamme de gaz de procédé et de réservoirs de stockage inflammables, et une alimentation en argon intégrée permet des réglages de processus faciles sans nécessiter d'approvisionnement en gaz externe. Cette machine supporte également une variété d'accessoires en option, y compris des sources d'ions et des chambres d'ions, des systèmes degas, des analyseurs de spectre et des mécanismes de levage de plaquettes, ainsi qu'un logiciel de contrôle intuitif extrêmement facile à utiliser. En conclusion, la chambre de procédé APPLIED MATERIALS P5000 est un choix idéal pour le dépôt efficace et fiable de métaux, d'oxydes, de silicium polycristallin, de diélectriques et de nitrures. Ses capacités à haut débit, combinées à des fonctionnalités avancées telles que la technologie ECR et l'alimentation en argon intégré, en font un excellent choix pour toute application nécessitant des cycles de processus lisses et fiables avec des résultats fiables.