Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9179591 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur enrichi par plasma (PECVD). Il s'agit d'un outil industriel à haut débit utilisé pour des applications de dépôt en couches minces. AMAT P-5000 offre un environnement idéal pour le dépôt de couches minces de matériaux tels que les semi-conducteurs, les oxydes et les métaux dans la production de dispositifs opto-électroniques, de stockage de données et de microélectronique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise un conduit à deux étages qui abrite une chambre de procédé et une chambre de réaction. La chambre de procédé contient le substrat et peut être chauffée jusqu'à une température maximale de 500 ° C La chambre de réaction abrite la source de plasma et l'électronique de contrôle responsable de la génération et de la surveillance du plasma. Dans la chambre de réaction, le plasma est créé par une source RF (radiofréquence) et maintenu par trois sources de gaz - azote, argon et hydrogène. Le substrat subit un bombardement d'ions énergétiques qui agissent comme gravure ou agent de dépôt pour former des couches minces sur le substrat. Le cycle de processus en 12 étapes permet de traiter les substrats en quelques heures et avec un haut degré de répétabilité. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 offre une configuration d'outil facile pour des résultats reproductibles et cohérents, et une flexibilité grâce à un logiciel convivial. Il est conçu et fabriqué pour répondre aux exigences spécifiques de processus pour une variété de procédés de dépôt de films, avec un large choix de recettes et de chimies de processus compatibles. P 5000 est un système de dépôt fiable qui peut être utilisé dans une variété d'applications, de la microélectronique au stockage de données en passant par les cellules photovoltaïques et au-delà. Il est conçu pour permettre une production rapide et efficace de circuits intégrés de première qualité avec un niveau élevé d'assurance qualité. Il offre également des systèmes de contrôle des processus, d'automatisation et de collecte de données pour permettre le dépôt régulier et précis de couches uniformes très minces à basse température. Dans l'ensemble, AMAT P 5000 est un réacteur PECVD de qualité industrielle à haut débit qui offre une grande flexibilité, efficacité, cohérence et fiabilité. Avec ses fonctionnalités avancées et son haut degré de contrôle des processus, il peut aider à créer des circuits intégrés de haute qualité avec un grand degré de précision et de rendement.