Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9181901 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9181901
Taille de la plaquette: 6"
Metal etcher, 6".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs et de MEMS. AMAT P-5000 est un équipement à haut débit conçu pour accélérer le traitement des plaquettes et minimiser les temps d'arrêt, et dispose d'une interface graphique facile à utiliser et de capacités d'automatisation avancées. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CVD P 5000 est constitué d'une chambre à vide entourée d'une coquille en acier inoxydable, ainsi que d'un support de substrat pour le positionnement des plaquettes à l'intérieur de la chambre de dépôt chimique. A l'intérieur de la chambre se trouve un porte-substrat qui est monté au plafond et une entrée de gaz qui permet d'introduire dans la chambre des réactifs chimiques en phase vapeur. La chambre est en outre équipée d'un système d'échangeur de chaleur dédié, d'une pompe à vide et d'un suscepteur qui assure la stabilité thermique et l'uniformité nécessaires pour assurer des résultats de traitement précis. Lors des procédés de dépôt chimique, une unité pilotée par ordinateur régule la pression, la température et l'écoulement des gaz à l'intérieur de la machine, de sorte que le matériau désiré est déposé sur le substrat. L'outil sous vide crée un environnement basse pression dans la chambre qui permet le dépôt réussi et efficace des espèces chimiques. APPLIED MATERIALS P5000 est conçu pour être extensible, ce qui signifie que l'actif peut être configuré et mis à niveau pour des besoins spécifiques. Par exemple, AMAT propose le réacteur en plusieurs modèles, dont chacun peut être équipé d'options et d'accessoires qui répondent le mieux aux besoins de l'application du client. Le modèle est également conçu à des fins de sécurité avec des embrayages qui éteignent l'équipement si certaines conditions ne sont pas remplies. En conclusion, P 5000 est un réacteur CVD de pointe conçu spécifiquement pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs et de MEMS. Sa conception efficace et ses fonctionnalités personnalisables en font une solution idéale pour les besoins exigeants de ces applications.
Il n'y a pas encore de critiques