Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9185352 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9185352
Taille de la plaquette: 4"
PVD Systems, 4".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute performance. Ce réacteur est capable de réaliser une variété de revêtements en couches minces utilisables pour diverses applications. Il est équipé d'un équipement innovant de distribution de gaz qui permet de fonctionner avec une large gamme de gaz et un système d'alimentation plasma avancé qui permet de fonctionner à des températures et des taux de dépôt élevés. AMAT P-5000 utilise un bloc de chargement pour charger et décharger les matériaux. Cela élimine la nécessité d'une intervention de l'opérateur et garantit que le produit n'est pas exposé à l'environnement de processus rude. La chambre isolée contient deux électrodes qui sont reliées à une alimentation haute tension pour générer le plasma. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise une machine de contrôle de débit de gaz pour réguler précisément le débit de gaz dans la chambre. Cet outil est capable de fournir des mesures des débits, des températures et des pressions en temps réel pour assurer un fonctionnement optimal du procédé. L'actif de contrôle de flux permet également des conditions de processus précises et répétables pour un dépôt de film cohérent. P-5000 est un réacteur très polyvalent capable de traiter tous les types de substrats. Il a un modèle de régulation de température avancé qui permet même le chauffage sur toute la surface du substrat pour un dépôt de film uniforme. P5000 est également capable de déposer des films à des vitesses élevées sur une grande surface et à des vitesses de ligne différentes pour obtenir l'épaisseur et l'uniformité souhaitées dans les films. Le réacteur APPLIED MATERIALS P-5000 est idéal pour les industries telles que les semi-conducteurs et l'optoélectronique, l'affichage à écran plat, le MEMS et le photovoltaïque, ainsi que pour la recherche et le développement. La chambre UHV et la conception robuste et fiable de l'équipement en font un excellent choix pour les applications qui nécessitent un contrôle complet du processus, un contrôle précis de la température et des résultats fiables. Il s'agit d'un système facile à utiliser et économique qui convient bien à une variété d'applications industrielles et de recherche nécessitant un dépôt précis en couches minces.
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