Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9185355 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à haute performance conçu pour les applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt en couche atomique (ALD). Cet équipement à faible coût et à haut rendement offre une excellente uniformité, fiabilité et répétabilité pour des applications de dépôt difficiles. Il est conçu pour le dépôt de matériaux tels que le cuivre, le silicium, le tungstène et l'aluminium. Le réacteur AMAT P-5000 contient une chambre de réaction alignée verticalement qui permet un accès facile et des résultats prévisibles à chaque utilisation. Ce système compact est construit avec un design modulaire pour un montage et un entretien faciles. La chambre est conçue avec une enveloppe refroidie à l'eau en acier inoxydable et est capable de fonctionner dans les conditions ambiantes et sous vide. La chambre de réaction contient également une machine d'injection de vapeur chimique en acier inoxydable, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision la composition chimique du gaz à l'intérieur de l'outil. Une vanne de dépôt automatique est logée à l'intérieur de la chambre et agit pour réguler l'alimentation en vapeur chimique dans la chambre de réaction. Cette vanne dispose d'un mécanisme de démarrage flexible programmable intuitif et de paramètres d'activation réglables, permettant aux utilisateurs d'ajuster le débit de vapeur chimique simplement en ajustant les paramètres d'activation. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 dispose également d'une plaque de vue en quartz. Cette plaque est utilisée pour inspecter les progrès du revêtement au cours du processus de dépôt. L'utilisateur peut également utiliser la plaque de vue pour effectuer des inspections visuelles une fois le dépôt terminé. P-5000 réacteur est équipé d'un actif électrique puissant et fiable. Ce modèle est conçu pour le fonctionnement sûr et précis du réacteur de procédé. L'équipement électrique contient un régulateur de température intégré et une variété de dispositifs de sécurité, tels que des thermocouples et des chauffages, pour assurer le fonctionnement sûr du système. P 5000 est un excellent choix pour les processus CVD et ALD. Ce réacteur de procédé est une unité économique et fiable qui fournit une excellente uniformité et répétabilité, assurant des résultats de dépôt fiables et cohérents.