Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9186158 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un type de réacteur utilisé dans les procédés de dépôt chimique en phase vapeur, en particulier dans le dépôt de couches minces sur des plaquettes semi-conductrices. Ce type d'équipement assure un dépôt extrêmement uniforme de films sur toute la surface de la plaquette, ce qui la rend parfaitement adaptée à la fabrication de composants électroniques complexes. AMAT P-5000 est un réacteur rotatif à sources multiples horizontales à température contrôlée, conçu pour le traitement à basse et haute pression. Sa conception se compose de deux sources et de huit têtes de douche, toutes disposées en configuration circulaire. Une seule source est positionnée au centre du réacteur et inclinée vers les têtes de douche. Cette conception permet un dépôt de film uniforme sur toute la surface de la plaquette, fournissant un produit de haute qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est capable de fonctionner à des températures allant de 500 à 950 ° C et est équipé d'un capteur de température infrarouge qui surveille l'uniformité sur toute la surface de la plaquette. De plus, un système de régulation de la température en boucle fermée facilite le réglage précis de la température pour un dépôt uniforme des films sur la plaquette et permet le traitement des structures monocouches et multicouches. Au sommet du système se trouve une chambre à vide, qui abrite l'ensemble de la tête de douche et la protège de l'environnement. Cette chambre à vide abrite un distributeur de gaz, ce qui contribue à assurer une distribution uniforme du gaz aux têtes de douche. L'ensemble de tête de douche se compose de buses courbes horizontales, disposées dans un motif essentiellement rectangulaire, avec une ouverture ronde au centre et quatre buses supplémentaires dans les coins du cercle. A côté de la chambre à vide se trouve la chambre de procédé, qui abrite les substrats - typiquement des plaquettes de silicium - et est en contact direct avec les têtes de douche. A l'intérieur de la chambre de procédé se trouve une pompe à vide, qui maintient l'atmosphère désirée dans la chambre. Enfin, l'emballage AMAT P 5000 comprend des régulateurs de température et de vitesse au sommet, qui permettent un contrôle précis des paramètres du processus de dépôt chimique en phase vapeur. Ceci assure un dépôt régulier des matériaux sur la plaquette et une grande homogénéité des propriétés des matériaux tels que la cristallinité et la rugosité de surface. La combinaison de ces contrôleurs permet des paramètres optimaux pour tous les types de dépôt de film.