Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9190859 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 incarne le nouveau génie des réacteurs pour un large éventail d'applications. Il s'agit d'un réacteur entièrement automatisé de dépôt chimique en phase vapeur par plasma (PECVD) idéal pour les procédés de pelliculation et de revêtement. C'est un équipement de pointe capable de déposer un large éventail de matériaux avec un contrôle précis. En tant que système PECVD en ligne, il a la capacité de fournir un débit élevé avec vitesse, qualité et contrôlabilité. AMAT P-5000 est conçu avec une chambre de processus robuste et fiable qui dispose d'une conception polyvalente à port unique. Le port est un module polyvalent équipé d'une variété de matériel d'introduction, de transport d'échantillons, de livraison de gaz et de prélèvement d'échantillons. Il est conçu pour fournir une température contrôlée et des vitesses de dépôt précises sur une large gamme de températures et de pressions à l'intérieur de la chambre. La chambre peut supporter à la fois basse et haute pression avec un contrôle précis de la température. La chambre est conçue avec une paroi en céramique renforcée qui assure sa durabilité et sa longue durée de vie. Il dispose également d'un contrôle plasma précis et de mesures de température précises. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est équipé de robotique multi-axes pour un contrôle précis des substrats. L'unité de contrôle se compose d'un robot-contrôleur précis basé sur PLC qui est intégré dans la machine du réacteur. Il offre un actionnement précis et une commande de mouvement précise pour le positionnement de substrat multi-axes. En outre, le contrôleur PLC précis peut contrôler les paramètres de dépôt, y compris la température, la pression, la taille du substrat, la zone de dépôt, l'angle de dépôt et le débit de gaz. Ce réacteur dispose d'un contrôleur de mouvement haute performance et peut être configuré avec plusieurs conseils d'outils pour différentes caractéristiques de taille, d'angle et de localisation du substrat. Il dispose également de logiciels avancés, y compris l'interface utilisateur graphique (interface graphique) facile à utiliser. En termes de performances opérationnelles générales, P5000 est équipé d'un outil de régulation de température avancé qui permet des résultats de dépôt précis et reproductibles. Il offre également une répétabilité de processus supérieure, une analyse d'image en temps réel, une répétabilité élevée d'une recette unique et une large fenêtre de dépôt. En outre, cet actif robuste non seulement augmente la productivité, mais réduit aussi considérablement le coût des composants et le temps de retournement des produits. En bref, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 est un réacteur automatique PECVD idéal pour les applications de pellicule et de revêtement assurant un contrôle précis et des performances supérieures.