Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9191088 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur fermé de 25 mm conçu pour permettre divers procédés de dépôt de couches minces. Il offre un contrôle complet des processus dans un emballage compact et économique, ce qui le rend idéal pour les industries des semi-conducteurs, de l'affichage à écran plat et de l'optoélectronique. Le réacteur AMAT P-5000 est capable de fournir un dépôt avancé de couches minces dans divers environnements sous vide et plasma, y compris les conditions d'ultra-vide (UHV) et d'ultra-bas vide (ULV). Équipé d'une alimentation UHV et d'un système de contrôle avancé, il permet d'explorer avec précision la science des matériaux pour faciliter le dépôt de couches minces sur une gamme de matériaux et de substrats. L'utilisation du système de traitement simple ou double face est également idéale pour les procédés de fabrication, permettant notamment la création d'hétérojonctions en couches minces. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 utilise une plate-forme de chambre de travail exclusive qui offre jusqu'à trois zones de température. Ceci permet le traitement efficace d'une large gamme de tailles et de formes de substrat, permettant une gamme plus polyvalente de dépôts de couches minces. La conception innovante de la chambre permet des options séquentielles de chauffage, de refroidissement et de dépôt de film, permettant ainsi des temps de traitement plus rapides et plus efficaces. Le réacteur est également équipé d'un système de mélange de gaz avancé, capable de contrôler automatiquement le mélange de gaz ainsi que de permettre un réglage manuel pour un contrôle optimal du procédé. Cela offre une certaine commodité et efficacité, car l'interface utilisateur de contrôle numérique d'AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 permet le stockage et la récupération des recettes, ainsi que la création de séquences de processus spécialisées. P-5000 réacteur est également équipé d'un port de transfert de loadlock qui permet une large gamme de tailles et de formes de substrats. Ceci est couplé à un microscope électronique à balayage (SEM) qui permet l'analyse sur place de couches minces. Cela permet de réduire le temps de traitement et de développement coûteux tout en assurant une meilleure qualité et un contrôle serré des paramètres de processus et des produits finis. AMAT P 5000 est un réacteur avancé et hautement capable qui est idéal pour les procédés à couches minces dans de nombreuses industries. Il offre des fonctionnalités complètes de contrôle de processus et de facilité d'utilisation, ce qui en fait un atout précieux pour ceux qui cherchent à maximiser l'efficacité dans le développement et la production de films minces.