Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9193408 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un outil de haute précision conçu pour les applications avancées des semi-conducteurs et la recherche sur les matériaux. Il dispose de températures allant de 250 ° C à 1100 ° C, avec une gamme de gaz de procédé, y compris N2 pur, O2 et Ar. Le réacteur AMAT P-5000 possède également une haute pression, une faible masse thermique, des températures élevées et une faible constante de temps thermique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 Le réacteur est un outil in situ capable d'atteindre divers taux de dépôt, y compris les procédés CVD et PVD. Il peut fonctionner en mode vertical ou horizontal et peut être utilisé pour le dépôt et le traitement thermique rapide de monocristaux, de couches nanométriques et multicouches. AMAT P5000 Reactor est également adapté pour des applications dans le développement de procédés semi-conducteurs avancés et l'ingénierie des dispositifs. Le réacteur AMAT P 5000 est particulièrement utile pour la production de films nanométriques et de multicouches complexes, ainsi que pour la croissance de circuits intégrés haute densité. Il offre une cinétique et un contrôle excellents, permettant de contrôler l'épaisseur du film, la rugosité et d'autres paramètres morphologiques. Sa grande taille de chambre, sa faible masse thermique et sa faible constante de temps thermique le rendent adapté à la production à haut débit de matériaux de couche fonctionnelle. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P-5000 Le réacteur dispose d'un large éventail de procédés et de recettes de procédés et est capable d'atteindre des taux de dépôt élevés et une excellente uniformité. Il est également capable de réaliser des films à haut débit dans des conditions agressives. En plus de sa large gamme de capacités de traitement, le réacteur P 5000 est entièrement automatisé et peut être facilement intégré dans les lignes de fabrication existantes. P5000 Le réacteur est capable de fonctionner dans un large éventail de conditions de température et de pression. Il dispose de zones de température uniformes sur toute la chambre, et utilise le refroidissement actif pour assurer l'uniformité et la stabilité des conditions de processus. Il offre également un système de levage intégré pour le levage facile des composants pour le processus direct ou le transfert de matière. En conclusion, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor est un outil de procédé avancé conçu pour le traitement et la recherche de matériaux semi-conducteurs avancés. Il est capable d'obtenir des taux de dépôt élevés, une uniformité et un excellent contrôle cinétique. Sa grande taille de chambre, sa faible masse thermique, son refroidissement actif et son système de levage intégré le rendent adapté à un large éventail d'applications.