Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9195270 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma utilisé dans des opérations spéciales de dépôt ou de gravure électrochimique. Ce réacteur est capable de délivrer des puissances plasmatiques allant jusqu'à 50 kW avec des pressions de chambre allant jusqu'à 2 × 10-3 torr. En outre, ce réacteur de procédé comprend un chargeur et un déchargeur intégrés de plaquettes, des systèmes de nettoyage intégrés et des systèmes d'éclairage robustes. Le réacteur AMAT P-5000 est doté d'une chambre de procédés en métal et en céramique pour protéger l'électricité statique et les températures élevées. Les composants métalliques de la chambre sont étanches aux gaz et comprennent une séparation complète des alésages entre les chambres de procédé et les chambres d'échappement pour une manipulation efficace des gaz d'échappement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 fonctionne dans diverses atmosphères gazeuses, dont l'hydrogène, l'hélium, l'azote et l'oxygène. En outre, il a la capacité de traiter les fluorocarbones, l'acide chlorhydrique et d'autres gaz organiques. La chambre du réacteur comporte une interface PEM à un seul étage dans laquelle le dépôt se fait simultanément sur plusieurs substrats. Le procédé de dépôt ou de gravure est contrôlé par une source de courant continu basse tension. Les réactifs sont des gaz injectés en série à travers des orifices d'injection situés autour de la circonférence externe de la chambre. L'énergie dans le plasma est alors dirigée vers le substrat. Cette énergie est suffisante pour rompre les liaisons entre les réactifs et le matériau du substrat, ce qui permet le processus de dépôt. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 comprend un système intégré de chargement des plaquettes, qui permet de charger et de décharger jusqu'à 12 substrats à la fois. Le bras robot utilisé dans ce système est conçu pour minimiser l'intervention humaine pour le chargement et le déchargement. Les systèmes elctro-nettoyants intégrés assurent un nettoyage rapide entre les processus, et le système d'éclairage offre un accès visuel pendant le fonctionnement. AMAT P5000 est un réacteur polyvalent et capable pour des procédés complexes de dépôt électrochimique ou de gravure dans un large éventail de milieux industriels, de recherche et universitaires. Ce réacteur est adapté à de nombreuses applications telles que la lithographie, le MEMS et la fabrication de semi-conducteurs.