Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9198050 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un équipement réactionnel très efficace utilisé dans la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il est composé de quelques composants clés qui sont tous logés dans une plate-forme unique et intégrée. La chambre de processus est la composante primaire d'AMAT P-5000 et est utilisée pour tant traiter que déposer des couches sur les gaufrettes de semi-conducteur. Il s'agit d'une chambre à vide horizontale de 335mm de diamètre avec un système de bateau à quartz de 250mm, entouré de murs en quartz. La chambre de processus est chauffée en utilisant deux 250W les générateurs à micro-ondes, deux coupleurs inductifs de 30 kW et deux fusils de rayon électronique de 20 kW, en y permettant d'accomplir des températures de jusqu'à 1 300 °C. Il dispose également d'une boîte à gaz avec des ports d'entrée et de sortie et d'une unité de distribution de gaz qui fournit les gaz nécessaires lors du traitement. La source de plasma est le deuxième composant majeur de APPLIED MATERIALS P 5000, et sert à générer le plasma nécessaire au traitement. Il comprend un 300W le générateur inductivement couplé, une source magnetron, un distributeur du gaz et une machine de rouleau de F-série. La source de plasma fonctionne typiquement en mode « faire » et présente des pressions sélectionnables, permettant un contrôle précis des énergies ioniques et des vitesses de dépôt. Le générateur RF est le troisième composant majeur de l'AMAT P 5000, et est utilisé pour alimenter la chambre. Il fournit une puissance maximale de 150kW, qui est réglable sur une plage de fréquence d'impulsions de 300-1000 kHz. Son but premier est de fournir la puissance nécessaire au traitement des plaquettes dans la chambre de traitement. L'outil de filtrage RF est le quatrième élément majeur de P-5000, et est utilisé pour améliorer la performance globale de l'actif. Il comprend trois filtres pour maximiser le rendement énergétique et la protection du circuit. Le premier filtre, le filtre de commutation, réduit le bruit haute fréquence, tandis que les deuxième et troisième filtres, les filtres Pi et Chebychev, respectivement, réduisent les spurs et les émissions hors bande. Le dernier composant clé de APPLIED MATERIALS P-5000 est son contrôleur, qui permet la surveillance et le contrôle précis de tous les composants pendant le traitement. Il se compose d'une boucle de contrôle analogique qui surveille la température, la pression et d'autres paramètres du réacteur, et d'une boucle de contrôle numérique qui contrôle les niveaux de puissance de la chambre, de la source de plasma et du générateur RF. APPLIED MATERIALS P5000 est un modèle de réacteur très efficace et polyvalent utilisé dans la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Sa plate-forme intégrée, composée de la chambre de procédé, de la source de plasma, du générateur RF, de l'équipement de filtrage RF et du contrôleur, permet un contrôle précis du processus de dépôt, permettant la production constante de semi-conducteurs de haute qualité.