Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9199844 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9199844
Taille de la plaquette: 6"
CVD System, 6" (4) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma basse pression de pointe pour le traitement des plaquettes semi-conductrices. Cet équipement est spécialement conçu pour le dépôt contrôlé, la gravure et le nettoyage de différents types de matériaux et de surfaces. AMAT P-5000 est capable de traiter des applications photorésistantes à haut rapport d'aspect. Il est unique parmi les systèmes à plasma, car APPLIED MATERIALS P 5000 peut manipuler des matériaux avancés pour les opérations de front-end-of-line (FEOL) et back-end-of-line (BEOL). Il est équipé d'un générateur haute fréquence radio (RF) capable de délivrer jusqu'à 400 W de puissance RF, une chambre de processus unique qui fournit une excellente uniformité de plasma et la capacité de sélection, et une automatisation programmable puissante qui a été optimisée pour les substrats à base de silicium. AMAT P 5000 est idéal pour les processus à haut rapport d'aspect, tels que la fixation de lignes de dimensions étroites et d'espaceurs. Il fournit une vitesse de gravure exceptionnelle et la sélectivité grâce à l'utilisation d'un générateur RF à paroi chaude intégré, permettant jusqu'à 400 W d'alimentation RF. Il en résulte une grande fenêtre de traitement qui aide à réduire le nombre d'étapes de processus nécessaires pour obtenir un résultat amélioré. AMAT P5000 utilise un gaz de gravure interne à une pression de 0,1-100 mTorr avec régulation de température jusqu'à 450 ° C Il offre un système d'automatisation performant qui permet de combiner de manière optimale le débit de gaz, la température et la pression tout au long de la séquence de traitement. En outre, les paramètres de l'unité peuvent être facilement modifiés pour un large éventail de processus. La conception exclusive de la chambre de la machine consiste en une doublure PREDSTORMMD à refroidissement par eau à double mode avancée qui réduit efficacement la non-uniformité du plasma, améliorant la capacité de processus et la répétabilité. AMAT/APPLIED MATERIALS L'outil d'injection breveté P 5000 Vertical Geometry Optimisé thermiquement Radial Longer (VG Tylor) fournit efficacement votre procédé avec des gaz d'échappement (vide) et de traitement et de purge. P5000 offre d'excellentes capacités de communication PC et mobile, permettant à votre personnel de surveiller et de gérer l'actif de n'importe où. Ce modèle utilise un puissant module de contrôle du four (OCM) pour le contrôle exact de la température, le diagnostic in situ et le contrôle complet du processus au niveau des plaquettes pour une répétabilité maximale du processus. En conclusion, APPLIED MATERIALS P-5000 est un réacteur de wafer sophistiqué et de haute technologie qui offre un contrôle de procédé inégalé, permettant des opérations de dépôt, gravure et nettoyage de haute qualité. Il offre une uniformité de gaz supérieure, un excellent contrôle de la température et des capacités de communication PC/mobile impressionnantes. Si votre installation cherche à effectuer un traitement de haute qualité et de haut rapport d'aspect, alors P-5000 est le choix idéal.
Il n'y a pas encore de critiques