Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9201852 à vendre en France
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ID: 9201852
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1998
CVD System, 8"
Process: DxL
(4) Chambers
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur de gravure plasma avancé et haut de gamme. Il est capable de créer et de graver des structures complexes, allant de la micro-taille à la macro-taille, dans une grande variété de matériaux. Il est généralement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le traitement de haute précision, tels que les photomasques, le placage, le conditionnement de puces et la fabrication de plaquettes. AMAT P-5000 utilise un module double mode desmear et passivation, qui permet au réacteur de réaliser simultanément des fonctions de gravure et de passivation. Le module desmear est capable de produire des morphologies de surface extrêmement uniformes, tandis que le module de passivation peut fournir des revêtements protecteurs sur des surfaces. Ceci améliore les performances et la précision du réacteur, permettant une gravure extrêmement précise. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 dispose également de deux chambres de traitement multi-segments. Ces chambres sont conçues pour ajuster indépendamment les conditions de gravure, permettant la gravure d'un large éventail de matériaux. La chambre peut être configurée pour contrôler des paramètres tels que la température de fonctionnement, la puissance du plasma et la pression à l'intérieur de la chambre de plasma. Cela garantit que le résultat final présente des caractéristiques de gravure optimales. En plus de ses capacités de gravure, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 est équipé d'un module de nettoyage in situ avancé. Ce module peut être utilisé pour éliminer les particules du substrat avant la gravure, éviter des dommages au substrat et assurer un résultat de gravure plus précis. Enfin, APPLIED MATERIALS P5000 est conçu pour fonctionner sur une multitude de systèmes électriques et de communication, permettant une intégration homogène dans les lignes de production existantes. Ceci permet au réacteur de communiquer facilement avec d'autres systèmes, ainsi que de contrôler à distance ses opérations. Cela simplifie le processus de gravure, réduit les temps d'arrêt et améliore l'efficacité. Au total, le P 5000 est l'un des systèmes de gravure les plus avancés du marché. Sa combinaison de capacités de gravure avancées, de passivation et de nettoyage in situ en font un choix idéal pour les lignes de production de précision. En outre, sa capacité à s'intégrer facilement dans les processus et systèmes existants en fait une option attrayante pour les applications industrielles et de recherche.
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