Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9203417 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un graveur polyvalent à échelle de production et un outil de dépôt. Il s'agit d'un système de traitement sous vide avancé idéal pour la création de composants et de dispositifs en couches minces de pointe. AMAT P-5000 est construit avec une chambre en acier inoxydable monobloc tubulaire, offrant une fiabilité robuste et une facilité d'installation. Il mesure 156,5 cm de hauteur et est situé à l'intérieur d'une enceinte en acier inoxydable à double paroi avec un diamètre de fermeture de 20 pouces et une capacité de pression allant jusqu'à 6 torr. La chambre elle-même a une vitesse de pompage standard de 106 l/s et un volume de 187 litres. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est composé de silicium polycristallin, de siliciure de titane et de nitrure de silicium. APPLIED MATERIALS P-5000 utilise deux configurations primaires d'imagerie ; le processeur d'images en vue circulaire et le processeur d'images en vue de plan. Le processeur à vue circulaire est conçu pour la gravure de plaquettes et d'autres procédés de découpage, tandis que le processeur à vue de plan permet le processus complet de dépôt de substrat. Les deux processeurs s'appuient sur un éclairage à double source, permettant une imagerie détaillée de l'ensemble de la chambre. P-5000 est actionné par deux FM 300 alimentations électriques électroniques, avec une gamme de jusqu'à 800 watts et un règlement de précision de 1 %. Les condensateurs haut de gamme et les rotamètres permettent un contrôle précis des vitesses de gravure et de dépôt. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 utilise un système d'étanchéité sous vide, comprenant une combinaison de chicanes de gaz, de glissières chauffantes, de chauffages et de résistances, et de cryo-refroidisseurs spéciaux. Cela scelle tous les composants du procédé, éliminant les points de fuite potentiels, et permet une gravure impulsionnelle fiable jusqu'à 800W. Le système est installé dans une salle blanche moderne et offre un excellent contrôle de la contamination, avec des débits minimums potentiels de 3ppb de particules à une valeur de 0,5 microns. Une chambre de verrouillage de charge indépendante offre un excellent traitement des plaquettes, tandis que l'interface graphique facile à utiliser permet un fonctionnement rapide et efficace. P 5000 est conçu pour répondre aux normes les plus élevées en matière d'assurance qualité et d'efficacité de la production, offrant de meilleurs rendements et des défauts réduits pour une production à grande échelle. Sa conception avancée de réacteur offre un excellent contrôle, fiabilité et performances, ce qui en fait l'un des ensembles d'outils les plus fiables de sa catégorie.