Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9210301 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma avancé conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Le réacteur offre une gamme de caractéristiques conçues pour répondre aux exigences de plus en plus complexes du traitement moderne des semi-conducteurs. L'équipement peut être utilisé pour divers procédés, y compris la gravure, le dépôt et l'implant. AMAT P-5000 dispose d'une chambre de procédé multizone de type tirage qui est conçue pour faciliter un débit plus élevé, une meilleure uniformité et des rendements améliorés. La chambre est entourée d'une série de modules de processus auxiliaires étroitement couplés, dont une source de plasma à distance, un générateur RF, un contrôleur, une boîte de résonance électron-cyclotron et un contrôleur de débit massique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 possède également des capacités intégrées de caractérisation de surface, lui permettant de mesurer l'épaisseur du film, sa résistivité et d'autres paramètres. AMAT P5000 utilise un système de vide à commande directe pour maintenir un environnement à basse pression. Cela permet à la chambre d'atteindre une pression de base de 5 mTorr, ce qui rend le réacteur bien adapté aux processus plasmatiques haute et basse pression. L'unité dispose également de systèmes de gaz réglables qui permettent un contrôle précis du débit de gaz, ce qui facilite les résultats de processus répétables. P-5000 est conçu pour des opérations plasmatiques à haute performance impliquant une variété de gravures, un dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma et une implantation par faisceau d'ions. Il dispose d'une grande pièce unique, de plaquettes d'ouverture centrale, et de petites plaquettes de plusieurs pièces jusqu'à 8 pouces. Les grandes plaquettes peuvent être chauffées jusqu'à 130 ° C et les petites plaquettes jusqu'à 400 ° C La machine dispose également d'une capacité de charge/déchargement de wafer haute vitesse et d'un panneau de gaz haute vitesse pour une livraison de gaz rapide et précise. APPLIED MATERIALS P5000 est conçu pour diverses applications, y compris la fabrication de circuits VLSI, de dispositifs de puissance à semi-conducteur, de dispositifs MEMS et de structures optiques. L'outil est supporté par un puissant ordinateur hôte, qui peut être utilisé pour surveiller et contrôler les paramètres du dispositif tels que la pression, la température de la plaquette et le temps. Le logiciel comprend également une fonction de modélisation 3D qui peut être utilisée pour visualiser et optimiser les résultats du processus. AMAT P 5000 est un réacteur avancé, riche en fonctionnalités, conçu pour répondre aux besoins évolutifs de l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur fournit un contrôle précis de la température, de la pression et du gaz, permettant un contrôle détaillé de l'environnement du procédé. Avec ses grandes capacités de wafer, sa manipulation rapide des wafers et ses capacités de processus de haute précision, P5000 est une solution idéale pour une variété de procédés plasma avancés.