Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9210302 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9210302
Taille de la plaquette: 6"
Tungsten PECVD system, 6".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un réacteur à plasma à couplage inductif (ICP) conçu pour une gravure très efficace et précise des films à motifs et couvertures. Le réacteur permet une composition plasma et une répartition de température uniformes sur tout le substrat, offrant une superbe qualité cristalline et des profils de gravure améliorés avec une variation minimale. L'équipement est entièrement automatisé avec un contrôle avancé des processus, une surveillance et un support à distance, permettant une configuration rapide et facile et l'accès aux paramètres du processus. AMAT P-5000 est alimenté par une source de résonance cyclotron électronique (ECR) très efficace qui fournit un plasma haute densité et un contrôle élevé des mécanismes de gravure. Le système ICP dispose également d'une alimentation en fréquence pulsée hybride pour des performances électriques supérieures et des résultats supérieurs de gravure anisotrope descendante. L'unité est conçue pour graver en trois dimensions, permettant de créer des structures 3D complexes nécessaires à la production de composants électroniques et optoélectroniques de pointe. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les processus automatisés sophistiqués de P 5000 sont gérés par l'intermédiaire d'une interface utilisateur graphique, et la machine est équipée de capacités avancées de contrôle des processus, de surveillance et de surpression. L'outil est capable de manipuler un large éventail de matériaux de substrat, tels que le Si, le SiO2, le Si3N4 et le silicium polycristallin, permettant la production de motifs et de structures de micro-échelle jusqu'à 25nm. P5000 s'est avéré très fiable et efficace dans les opérations de gravure, et il fournit le plus haut débit avec une utilisation efficace des consommables, des temps de cycle de processus réduits, et une meilleure performance des actifs sous vide. De plus, le modèle est conçu pour être peu entretenu et peu coûteux, avec un minimum de temps d'arrêt. Le réacteur facilite également les installations et le fonctionnement respectueux de la salle blanche, avec un impact minimal sur l'environnement. Dans l'ensemble, P-5000 est un équipement de pointe de gravure du PCI conçu pour fournir des délais d'exécution, une précision constante et des résultats de processus reproductibles. Ses caractéristiques polyvalentes permettent la production de structures 3D complexes, permettant la production de composants électroniques et optoélectroniques hautement avancés et fiables.
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