Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9214227 à vendre en France

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AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
Vendu
ID: 9214227
Taille de la plaquette: 6"
System, 6".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un système de graveur d'ions réactif avancé (RIE) destiné à être utilisé avec des matériaux tels que des plaquettes de silicium et d'autres matériaux durs. Il est conçu pour offrir une uniformité de vitesse de gravure améliorée, une sélectivité de gravure et une répétabilité de processus en utilisant un bombardement ionique puissant et une génération de plasma uniforme. La chambre d'AMAT P-5000 est construite de l'acier inoxydable et est entourée d'une telle façon pour limiter des polluants et des particules d'entrer dans le processus. Il est disponible avec des options pour un loadlock, des systèmes de manutention de plaquettes et des systèmes de distribution de gaz. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est identique aux MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Plus, la seule différence étant l'inclusion d'un régulateur de pression dans le modèle Plus. AMAT P 5000 est équipé d'une source Electron Cyclotron Resonance (ECR) pour générer directement un plasma de haute densité avec une distribution uniforme d'ions. Cela jeux de signes uniques P5000 à part les systèmes RIE conventionnels. Il comprend également un réseau d'adaptation HF de forte puissance, capable de générer une très large gamme de puissances de gravure. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 dispose d'un système d'injection de gaz à double fréquence qui délivre des gaz de gravure à différentes pressions pour maintenir l'uniformité de pression dans toute la chambre. L'interface du système est conviviale, permettant une programmation facile de recettes de gravure complexes. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 peut être utilisé pour des applications de gravure dans une grande variété de matériaux, y compris le silicium, le verre, le quartz et le saphir. Il peut être utilisé pour la gravure de matériaux durs dans des substrats tels que des circuits intégrés et des composants de conditionnement au niveau des plaquettes. Il est également capable de gravures anisotropes profondes, ce qui est une caractéristique unique que peu d'autres systèmes RIE peuvent offrir. Le P 5000 offre de nombreux avantages lorsqu'il est utilisé pour la gravure de matériaux durs. Il peut fournir une vitesse de gravure extrêmement uniforme et des résultats de gravure hautement reproductibles. Sa large gamme de pouvoirs de gravure le rend adapté à diverses applications. L'uniformité du bombardement ionique permet également de maintenir la même vitesse de gravure sur l'ensemble du substrat. Sa construction robuste garantit une fiabilité à long terme et des coûts d'entretien réduits.
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