Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9217907 à vendre en France
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Vendu
ID: 9217907
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
CVD System, 8"
Process: SIO
Process chamber:
Chamber A & B: SIO
Chamber D: ETCH
Chamber version:
Chamber A & B: VAT ISO Valve
Chamber D: Standard
RF Generator type:
Chamber A & B: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
AI
AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Manometer type:
Chamber A & B: MKS 122B 11441
Chamber D: MKS 127
RF Matching box type:
Chamber A & B: 0010-09750D DR
Chamber D: 0010-09416
Turbo pump type:
Chamber D: LEYBOLD NT340M
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, Top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A & B: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A & B: P/N 0015-09091
Chamber D: P/N: 0015-70060
Signal tower
Gas panel type: (28) Gases
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / O2/ 100 / N2 / STEC / SEC-4400
D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 3000 / N3 / STEC / SEC-4400
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 est un outil de traitement automatisé complet conçu pour la fabrication de semi-conducteurs à haut volume. Il est conçu avec précision pour des performances supérieures et offre une gamme de recettes de processus et de capacités configurables pour une polyvalence maximale. AMAT P-5000 fournit une chambre de traitement puissante qui peut traiter un grand volume de substrats avec un débit plus élevé. Il dispose d'un équipement de transfert de serrure et de substrat de type cassette à cinq zones qui assure un cycle thermique stable et des conditions de processus répétables. Le système offre également des capteurs de charge numériques et analogiques pour surveiller la température, la pression et d'autres paramètres d'environnement. Le réacteur dispose d'une plate-forme d'automatisation améliorée qui fournit des logiciels intégrés de la base de données et de Primus pour simplifier la gestion de la programmation et de l'équipement. Ce logiciel fournit une optique avancée et des fonctionnalités ergonomiques pour configurer rapidement les recettes et optimiser les résultats des processus. Le logiciel Primus permet aux utilisateurs de prérégler les recettes et d'accéder à plusieurs contrôleurs de processus pour optimiser la progression de la recette et le débit du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le P 5000 est équipé d'une station de grappe à ultra-vide Suite 200 qui offre des temps de cycle rapides et une excellente précision de commande. L'unité est également dotée d'une capacité de dépôt à double canon VacGenEx, monoplace, qui offre une qualité et un débit de dépôt supérieurs. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 présente un large éventail de technologies plasmatiques, y compris le plasma à couplage inductif (ICP), le biais par radiofréquence (RF), le plasma hyperfréquence et le plasma source de plasma à distance. Toutes ces technologies plasma sont conçues pour augmenter la flexibilité et le rendement des procédés. La machine dispose également de capacités intégrées de chauffage et de refroidissement pour un contrôle précis de la température. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 peuvent vider les gaz de processus pour des économies de coûts d'entretien maximales et supportent jusqu'à huit réacteurs pour des capacités de débit améliorées. Il est compatible avec divers types de substrats et substrats, dont le silicium cristallin, le GaAs et le verre. AMAT P5000 est équipé de dispositifs de sécurité intégrés, y compris la surveillance de la pression des gaz Argon, des capteurs inertiels et des systèmes antistatiques de mise à la terre. Il est également fourni avec des capacités avancées de déclaration et d'analyse pour habiliter les utilisateurs à analyser rapidement les données et identifier les tendances de performance qui peuvent affecter les rendements des appareils.
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