Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236898 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Le réacteur est un équipement largement utilisé dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs et est largement reconnu comme l'un des réacteurs les plus avancés et les plus polyvalents sur le plan technologique. Ce réacteur est une version perfectionnée des réacteurs CVD (Chemical Vapor Deposition) de renom utilisés dans les laboratoires de semi-conducteurs. AMAT P-5000 Reactor est reconnu pour sa vitesse, sa conception innovante, sa flexibilité et sa capacité à répondre à la demande croissante des fabricants de semi-conducteurs. Ce réacteur est constitué de deux chambres distinctes, les chambres PECVD et PVD, qui effectuent simultanément des opérations in situ. La chambre PECVD est conçue pour former des films minces, tandis que la chambre PVD est utilisée pour les procédés de dépôt ou de gravure. En outre, ce réacteur présente plusieurs caractéristiques pour en faire un choix supérieur pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur présente un certain nombre de modifications pour une variété de besoins, parmi lesquels des contrôles automatisés des recettes, des plaquettes à double processus et un système de cartographie automatisée des plaquettes. De plus, le réacteur P 5000 est équipé d'un dispositif de chauffage perfectionné et d'une source de plasma multi-stations améliorée qui assure l'uniformité des processus et une répétabilité supérieure tout en réduisant considérablement la variation de température des plaquettes. En outre, ce réacteur est parfaitement compatible avec une variété de systèmes de réfrigérant préappliqués et ses buses escamotables spécifiques au procédé permettent un débit maximal. En outre, ses chambres avancées utilisent des systèmes de régulation de température extrêmement précis pour garantir des performances optimales. En outre, P5000 Reactor utilise également ses fonctions de surveillance et d'optimisation des procédés pour garantir un rendement et une productivité maximaux. En outre, le réacteur est conçu avec une unité sous vide leader dans l'industrie qui fournit aux utilisateurs des réglages extrêmement propres et hautement reproductibles d'une manière très sûre et efficace. Dans l'ensemble, le réacteur P 5000 AMAT/APPLIED MATERIALS est un choix privilégié parmi les fabricants de semi-conducteurs en raison de son immense polyvalence, sa flexibilité et ses caractéristiques technologiques avancées. Ce réacteur est garanti pour maximiser le rendement, la productivité et la reproductibilité du procédé tout en offrant un environnement de travail très sûr. En tant que telle, cette machine est idéale pour tous les processus du fabricant de semi-conducteurs et est sûr de faciliter le bon déroulement et le succès des opérations.